[发明专利]曝光装置及曝光方法在审
| 申请号： | 201910082883.8 | 申请日： | 2019-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN109581828A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 王坦 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂;王中华 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光罩 基板 基板载台 承载框 曝光装置 形变 曝光 承载 曲率 曝光偏差 均一性 凹陷 | ||
1.一种曝光装置，其特征在于，包括基板载台(10)及设于所述基板载台上方的光罩承载框(20)；
所述基板载台(10)用于承载待曝光的基板(100)，所述光罩承载框(20)用于承载光罩(200)，所述基板载台(10)呈往远离所述光罩承载框(20)的方向凹陷的曲面，使得基板(100)置于所述基板载台(10)上时，具有与置于所述光罩承载框(20)中的光罩(200)相同的形变曲率。
2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基板载台(10)上设有吸附模块(30)，所述吸附模块(30)能够吸附置于基板载台(10)上的基板(100)，使得所述基板(100)与所述基板载台(10)贴合。
3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基板载台(10)为矩形，所述基板载台(10)的长度及宽度的范围均为700至1500mm。
4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基板载台(10)中心的最低点与基板载台(10)边缘的最高点的高度差为4～10μm。
5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基板载台(10)的材料为铝合金、陶瓷或钛合金。
6.一种曝光方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板载台(10)及设于所述基板载台上方的光罩承载框(20)，所述基板载台(10)呈往远离所述光罩承载框(20)的方向凹陷的曲面；
步骤S2、提供基板(100)及光罩(200)，所述光罩承载框(20)上放置光罩(200)，在所述基板载台(10)上放置基板(100)，基板(100)置于所述基板载台(10)上后具有与置于所述光罩承载框(20)中的光罩(200)相同的形变曲率；
步骤S3、以所述光罩(200)对所述基板(100)进行曝光。
7.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述基板载台(10)上设有吸附模块(30)，步骤S2中，基板(100)置于基板载台(10)上后，所述吸附模块(30)能够吸附所述基板(100)使得所述基板(100)与所述基板载台(10)贴合。
8.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述基板载台(10)为矩形，所述基板载台(10)的长度及宽度的范围均为700至1500mm。
9.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述基板载台(10)中心的最低点与基板载台(10)边缘的最高点的高度差为4～10μm。
10.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述基板载台(10)的材料为铝合金、陶瓷或钛合金。
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