[发明专利]一种DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片及其制备方法有效
申请号: | 201910090329.4 | 申请日: | 2019-01-30 |
公开(公告)号: | CN109650400B | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 严春杰;潘玉凤;宋怀兵;周森;刘意;周云飞 | 申请(专利权)人: | 中国地质大学(武汉) |
主分类号: | C01B33/44 | 分类号: | C01B33/44;C01B33/40;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 王颖 |
地址: | 430000 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 dmf 剥离 钠基蒙脱石 超薄 纳米 及其 制备 方法 | ||
1.一种DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1,称取钙基蒙脱石分散在乙醇和水的混合溶液中,配制成钙基蒙脱石悬浮液;
S2,向所述钙基蒙脱石悬浮液中加入无水碳酸钠,球磨3h后老化,得到固液混合物;
S3,对所述固液混合物进行离心分离,得到固体物,洗涤、干燥,即得到钠基蒙脱石;
S4,将所述钠基蒙脱石分散在N,N-二甲基甲酰胺中,磁力搅拌的同时进行超声振荡,使钠基蒙脱石均匀分散在N,N-二甲基甲酰胺中,即得到平均厚度为1-2nm的DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片;其中,超声波振荡仪的温度设置为20℃,并且采用物理降温的方式保证水浴温度在25℃以下;钠基蒙脱石与N,N-二甲基甲酰胺的固液比为1.0-2.5g/100mL。
2.根据权利要求1所述的DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,其特征在于,步骤S1中,乙醇和水的混合溶液中,乙醇和水的体积比为1:9,配制的钙基蒙脱石悬浮液的固液质量比为5%:95%。
3.根据权利要求1所述的DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,其特征在于,步骤S2中,加入的无水碳酸钠的质量为钙基蒙脱石质量的5%,老化的时间为24h。
4.根据权利要求1所述的DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,其特征在于,步骤S3中,离心分离的转速为4000r/min,干燥的温度为105℃,干燥的时间为4h。
5.根据权利要求1所述的DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,其特征在于,步骤S4中,钠基蒙脱石与N,N-二甲基甲酰胺的固液比为1.5g/100mL。
6.一种DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片,其特征在于,由权利要求1-5任一项所述的制备方法制得。
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