[发明专利]一种DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910090329.4 申请日: 2019-01-30
公开(公告)号: CN109650400B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 严春杰;潘玉凤;宋怀兵;周森;刘意;周云飞 申请(专利权)人: 中国地质大学(武汉)
主分类号: C01B33/44 分类号: C01B33/44;C01B33/40;B82Y40/00
代理公司: 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 代理人: 王颖
地址: 430000 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 dmf 剥离 钠基蒙脱石 超薄 纳米 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1,称取钙基蒙脱石分散在乙醇和水的混合溶液中,配制成钙基蒙脱石悬浮液;

S2,向所述钙基蒙脱石悬浮液中加入无水碳酸钠,球磨3h后老化,得到固液混合物;

S3,对所述固液混合物进行离心分离,得到固体物,洗涤、干燥,即得到钠基蒙脱石;

S4,将所述钠基蒙脱石分散在N,N-二甲基甲酰胺中,磁力搅拌的同时进行超声振荡,使钠基蒙脱石均匀分散在N,N-二甲基甲酰胺中,即得到平均厚度为1-2nm的DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片;其中,超声波振荡仪的温度设置为20℃,并且采用物理降温的方式保证水浴温度在25℃以下;钠基蒙脱石与N,N-二甲基甲酰胺的固液比为1.0-2.5g/100mL。

2.根据权利要求1所述的DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,其特征在于,步骤S1中,乙醇和水的混合溶液中,乙醇和水的体积比为1:9,配制的钙基蒙脱石悬浮液的固液质量比为5%:95%。

3.根据权利要求1所述的DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,其特征在于,步骤S2中,加入的无水碳酸钠的质量为钙基蒙脱石质量的5%,老化的时间为24h。

4.根据权利要求1所述的DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,其特征在于,步骤S3中,离心分离的转速为4000r/min,干燥的温度为105℃,干燥的时间为4h。

5.根据权利要求1所述的DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,其特征在于,步骤S4中,钠基蒙脱石与N,N-二甲基甲酰胺的固液比为1.5g/100mL。

6.一种DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片,其特征在于,由权利要求1-5任一项所述的制备方法制得。

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