[发明专利]应用于光刻的光瞳相位优化方法

权利要求书

1.一种应用于光刻的光瞳相位优化方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：获取光源图形和掩模图形对应的三维掩模衍射频谱，并初始化光瞳相位分布；

S2：构造目标函数D

其中，为目标图形中坐标为(x,y)的像素点的像素值，Z(x,y,W,W_abe,m)表示光刻胶中成像坐标为(x,y)的像素点的像素值，F_m为光刻物镜第m个视场点对应的成像保真度函数，W_abe,m为光刻物镜第m个视场点对应的像差，k为光刻物镜视场点的个数，其中，光刻胶中成像各像素点的像素值利用矢量成像模型通过步骤S1中的三维掩模衍射频谱、光瞳相位分布W和光刻物镜像差W_abe,m计算得到；

S3：将光瞳相位分布W进行泽尼克多项式展开，得到其中，Γ_i是第i项泽尼克多项式，c_i为第i项泽尼克多项式对应的泽尼克系数，i＝1,2,…,37；

S4：利用共轭梯度法，将泽尼克系数c_i更新为c_i+s_cd^(t)，其中s_c为预先设定的优化步长，d^(t)为第t次更新方向；当更新次数t＝1时，当更新次数t1时，其中在以上各公式中，其中

其中，x_s和y_s表示光源平面的坐标，表示坐标为(x_s,y_s)的光源点的强度，J_sum表示所有光源点的强度之和，是一个归一化系数；p表示光的偏振方向，z表示沿直角坐标系z轴方向振动的光波偏振分量；1_N×1表示各元素均为1的N维列向量，上标T表示转置，因此表示各元素均为1的N维行向量；

每更新一次泽尼克系数，就计算一次当前泽尼克系数c_i对应的光瞳相位分布W和目标函数D，直到目标函数D的值小于预定阈值δD或更新泽尼克系数c_i的次数达到预定上限值K_P时，则将当前的光瞳相位分布W确定为经过优化后的光瞳相位分布。