[发明专利]一种小反射宽频带标准场产生装置有效

专利信息
申请号: 201910095641.2 申请日: 2019-01-31
公开(公告)号: CN109884569B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 蒋廷勇;王晓嘉;周恒;宁辉;孟萃;燕有杰;刘小龙 申请(专利权)人: 中国人民解放军63653部队
主分类号: G01R35/00 分类号: G01R35/00;G01R29/10
代理公司: 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 代理人: 刘瑞东
地址: 841700 新疆维吾尔*** 国省代码: 新疆;65
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 反射 宽频 标准 产生 装置
【权利要求书】:

1.一种小反射宽频带标准场产生装置,其特征在于,包括加载单锥TEM室(1)和半球形微波暗室(2);

所述加载单锥TEM室(1)包括锥体(3)、镜面板(4)、馈电结构(6)和多个无感电阻(7),馈电结构(6)穿过镜面板(4)与锥体(3)连接;

多个无感电阻(7)通过金属线(8)以等间隔串联布设的方式连接锥体(3)末端和镜面板(4)末端,无感电阻(7)与馈电结构(6)的距离与锥体(3)母线等长,并且与锥体(3)末端和镜面板(4)末端距离相等;

脉冲源(5)连接馈电结构(6),脉冲源(5)产生信号通过馈电结构(6)激励进入单锥TEM室内部产生一定时间窗的标准场;

所述加载单锥TEM室(1)通过连接件(9)固定于半球形微波暗室(2)的正中间;

所述多个无感电阻(7)并联后等效阻抗与单锥TEM室特征阻抗相等;

所述多个无感电阻(7)并联后等效阻抗与单锥TEM室特征阻抗为50Ω特征阻抗;

所述无感电阻(7)数量为8个。

2.根据权利要求1所述小反射宽频带标准场产生装置,其特征在于,馈电结构(6)包括锥体插针(10)和金属环(11),锥体插针(10)外部嵌套了一个金属环(11),锥体插针(10)的两端分别连接锥体(3)和脉冲源(5)。

3.根据权利要求2所述小反射宽频带标准场产生装置,其特征在于,金属环(11)线圈直径为1.0~1.5mm,其与镜面板(4)的垂直距离为1.0mm~1.2mm。

4.根据权利要求1所述小反射宽频带标准场产生装置,其特征在于,半球形微波暗室(2)采用尖劈型吸波材料制作。

5.根据权利要求1所述小反射宽频带标准场产生装置,其特征在于,镜面板(4)下面设置支撑柱(12)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军63653部队,未经中国人民解放军63653部队许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910095641.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top