[发明专利]一种基于局部直方图的聚焦测度实现方法有效
申请号: | 201910101956.3 | 申请日: | 2019-01-25 |
公开(公告)号: | CN109859151B | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
发明(设计)人: | 刘恋;郭立强 | 申请(专利权)人: | 淮阴师范学院 |
主分类号: | G06T5/40 | 分类号: | G06T5/40;G06T5/20;G06T5/00 |
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地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 局部 直方图 聚焦 测度 实现 方法 | ||
1.一种基于局部直方图的聚焦测度实现方法,其特征在于:具体步骤如下:
步骤S1:将原始图像像素的行数和列数均调整为2n的整数倍,其中n为正整数,得到图像f(x,y),图像f(x,y)的行数和列数分别用M和N表示;然后对f(x,y)进行高斯滤波处理得到滤波后的图像g(x,y);
步骤S2:对图像g(x,y)进行分块处理,得到大小为2n×2n像素的子图像Si(x,y),其中i=1,2,...,M×N/22n;子图像Si(x,y)的变量取值为:x=0,1,...,2n-1,y=0,1,...,2n-1;
步骤S3:计算每一幅子图像的直方图;
步骤S4:对子图像的直方图信息进行统计来构造子图像的清晰度并标记为Fi;
步骤S5:将所有子图像清晰度Fi所构成的集合记为{Fi|i=1,2,...,M×N/22n},求该集合的方差,并把方差值作为整幅图像的聚焦测度值;
所述步骤S3中,计算子图像Si(x,y)直方图的公式为:
其中rk是子图像像素的灰度级,rk∈[0,255];nk是灰度值为rk的像素的个数,22n是子图像中像素的总个数;
所述步骤S4中子图像清晰度Fi是通过统计0-127灰度级的直方图信息,即进行累加求和得到的,具体计算公式为:
2.如权利要求1所述的基于局部直方图的聚焦测度实现方法,其特征在于:所述步骤S1中,高斯滤波的公式为:
其中σ=3。
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