[发明专利]氮化物催化剂与其形成方法在审
| 申请号： | 201910103191.7 | 申请日： | 2019-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN111250129A | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 林国兴;蔡丽端;赵文轩;黄秋萍;杨秉兴;黄筱君;林俊男;林有铭 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | B01J27/24 | 分类号： | B01J27/24;C23C14/34;C23C14/06;C25B1/04;C25B11/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氮化物 催化剂 与其 形成 方法 | ||
1.一种氮化物催化剂，其特征在于，其化学结构为：
MxRuyN2，
其中M为Ni、Co、Fe、Mn、Cr、V、Ti、Cu、或Zn，0x1.3，0.7y2，且x+y＝2，
其中该氮化物催化剂为立方晶系或非晶。
2.如权利要求1所述的氮化物催化剂，其中M为Ni，0.069x1.086，且0.914y1.931。
3.如权利要求1所述的氮化物催化剂，其中M为Mn，0.01x0.8，且1.2y1.99。
4.如权利要求1所述的氮化物催化剂，其表面形貌为三角锥与四角锥。
5.一种氮化物催化剂的形成方法，包括：
将Ru靶材与M靶材置于含氮气的氛围中，其中M为Ni、Co、Fe、Mn、Cr、V、Ti、Cu、或Zn；
分别提供功率至该Ru靶材与该M靶材；以及
提供离子撞击Ru靶材与该M靶材，以溅镀沉积MxRuyN2于基材上，其中0x1.3，0.7y2，且x+y＝2，
其中MxRuyN2为立方晶系或非晶。
6.如权利要求5所述的氮化物催化剂的形成方法，其中提供至该Ru靶材的功率介于10W至200W之间，而提供至该M靶材的功率介于10W至200W之间。
7.如权利要求5所述的氮化物催化剂的形成方法，其中该含氮气的氛围压力介于1mTorr至30mTorr之间。
8.如权利要求5所述的氮化物催化剂的形成方法，其中该含氮气的氛围包含载气，且氮气与载气的分压比例介于0.1至10之间。
9.如权利要求5所述的氮化物催化剂的形成方法，其中该基材包括多孔导电层。
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