[发明专利]带表面保护膜的光学层叠体在审
申请号: | 201910103207.4 | 申请日: | 2019-02-01 |
公开(公告)号: | CN110109211A | 公开(公告)日: | 2019-08-09 |
发明(设计)人: | 新美健二郎;中田美惠;森永总司;高山侃也 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B1/14;G02B1/16 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王利波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学层叠体 粘合剂层 表面保护膜 保护膜 带表面 表面粗糙度 剥离性 可剥离 基材 贴合 | ||
1.一种带表面保护膜的光学层叠体,其具有光学层叠体和表面保护膜,其中,
该表面保护膜具有基材及粘合剂层,且通过该粘合剂层可剥离地贴合于该光学层叠体,
该表面保护膜的粘合剂层的厚度为2μm以下,且该粘合剂层的表面粗糙度Sa1为30nm以下,
该光学层叠体的与该粘合剂层接触的面的表面粗糙度Sa2为30nm以下。
2.根据权利要求1所述的带表面保护膜的光学层叠体,其中,所述粘合剂层的厚度为1μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的带表面保护膜的光学层叠体,其中,所述粘合剂层的表面粗糙度Sa1为10nm以下。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的带表面保护膜的光学层叠体,其中,所述光学层叠体的与所述粘合剂层接触的面的表面粗糙度Sa2为10nm以下。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的带表面保护膜的光学层叠体,其高速剥离力为0.20N/25mm以下。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的带表面保护膜的光学层叠体,其中,所述表面保护膜的厚度为15μm~60μm。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的带表面保护膜的光学层叠体,其中,所述表面保护膜在所述基材的与所述粘合剂层相反的一侧进一步具有抗静电层。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的带表面保护膜的光学层叠体,其中,构成所述粘合剂层的粘合剂的基础树脂选自有机硅类树脂、丙烯酸树脂、氨基甲酸酯类树脂及橡胶类树脂。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的带表面保护膜的光学层叠体,其中,所述光学层叠体包含起偏镜。
10.根据权利要求9所述的带表面保护膜的光学层叠体,其中,所述起偏镜的厚度为3μm~30μm。
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