[发明专利]一种瓷砖翻新乳液及其制备方法在审
申请号: | 201910104123.2 | 申请日: | 2019-01-18 |
公开(公告)号: | CN109777237A | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 黄天愿;杨小书;徐雁志;陈娟;富岛和宪 | 申请(专利权)人: | 佛山市顺德区巴德富实业有限公司 |
主分类号: | C09D133/12 | 分类号: | C09D133/12;C08F220/14;C08F220/18;C08F220/06;C08F220/32;C08F230/08 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 杨文钊 |
地址: | 528322 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 瓷砖 翻新 乳液 瓷砖表面 反应型 甲基丙烯酸甲酯 丙烯酸异辛酯 非离子乳化剂 亲水性有机酸 阴离子乳化剂 氧化剂 丙烯酸丁酯 硅烷偶联剂 功能单体 人力成本 时间成本 直接喷涂 还原剂 界面层 引发剂 重量份 刮涂 制备 水泥 节约 | ||
本发明公开一种瓷砖翻新乳液,按重量份计,包括以下原料:水40‑70份,反应型阴离子乳化剂2‑5份,反应型非离子乳化剂1‑3份,甲基丙烯酸甲酯10‑35份,丙烯酸异辛酯10‑30份,丙烯酸丁酯10‑20份,亲水性有机酸0.5‑3份,功能单体1‑5份,硅烷偶联剂1‑5份,引发剂0.5‑2份,氧化剂0.05‑0.25份,还原剂0.05‑0.25份。本发明的瓷砖翻新乳液,在瓷砖翻新过程中不需要铲掉破旧瓷砖、不需要在瓷砖表面刮涂一层水泥作为界面层,可以直接喷涂在瓷砖表面,大大节约了时间成本和人力成本。
技术领域
本发明涉及一种瓷砖翻新乳液及其制备方法,属于丙烯酸乳液领域。
背景技术
瓷砖作为装修中不可缺少的一种建材,不管是贴地还是贴墙都非常好用,广受消费者的喜爱。随着时间的流逝,瓷砖在使用中老化现象也会慢慢显现。贴地瓷砖使用十几年后,大部分地砖表面的釉质不是磨损就是脏污。外墙用瓷砖随着风吹雨淋日晒老化也是非常严重。有些防盗窗及空调架的锈蚀也会导致外墙瓷砖锈迹斑斑,从而影响到整栋房屋的美观及感受。
在装修领域,瓷砖翻新逐渐成为市场上非常重要的部分。传统的瓷砖翻新有以下方式:1.将老旧的瓷砖铲掉,重新进行贴瓷砖。2.在老旧瓷砖上刮涂一层水泥,然后在水泥上进行贴瓷砖或者喷涂一层涂料。上述的两种施工方式往往工期较长,非常浪费时间,且瓷砖翻新后容易脱落,成本很高。另外,一般的外墙涂料直接喷涂或刷涂在瓷砖上,其附着力很差,非常容易脱落,且耐水性也达不到效果。
现有专利“一种外墙瓷砖翻新的双组分涂料”(申请号为201610030440.0),该涂料包括按重量比55-60:40-45的A组分和B组分;其中A组分包括如下物质及重量份数:丙烯酸防水乳液30~40份、有机硅乳液5~10份、增稠剂0.1-0.3份、分散剂0.5-1.5份、润湿剂0.05-0.15份、附着力促进剂0.1-0.3份、防霉剂0.4-0.6份、消泡剂0.4-0.6份、成膜助剂1~1.5份、助溶剂2.0-3.0份和水4-5份,丙烯酸防水乳液为丙烯酸酯类胶乳;B组分包括如下物质及重量份数:钛白粉5~10份、石英粉8~15份和白水泥20~25份。
另外,中国专利“一种建筑外墙瓷砖翻新用涂料”(申请号为201210495062.5),所述涂料包括A组份和B组份,其中A组份以重量百分比计由下列组份组成:成膜物质Ⅰ18-22%,所述成膜物质Ⅰ为接枝了可以与水性双酚A环氧树脂共混交联固化的功能官能团的丙烯酸乳液,成膜助剂Ⅰ6-8%,颜料10-12%,填料16-18%,分散剂2-4%、润湿剂0.2-0.4%、消泡剂0.6-0.8%、增稠剂2-4%、pH调节剂0.5-0.7%、防霉剂0.2-0.4%、防腐剂0.1-0.3%、附着力促进剂1.5-2.5%,余量为水;B组份由以重量百分比计的下列物质组成:成膜物质Ⅱ60-70%,所述的成膜物质Ⅱ为水性双酚A环氧树脂,成膜助剂Ⅱ30-40%;A和B的混合比例为10:1-1.5。
上述涂料使用效果不佳,且施工不便捷。因此,开发一种可直接用于瓷砖表面翻新的丙烯酸乳液,是目前建筑涂料的一大难题。
发明内容
针对上述现有技术存在的问题,本发明提供一种瓷砖翻新乳液,可以直接喷涂在瓷砖表面进行翻新,大大节约了时间成本和人力成本。
本发明还同时提供了上述瓷砖翻新乳液的制备方法。
为了实现上述目的,本发明采用的一种瓷砖翻新乳液,按重量份计,包括以下原料:水40-70份,反应型阴离子乳化剂2-5份,反应型非离子乳化剂1-3份,甲基丙烯酸甲酯10-35份,丙烯酸异辛酯10-30份,丙烯酸丁酯10-20份,亲水性有机酸0.5-3份,功能单体1-5份,硅烷偶联剂1-5份,引发剂0.5-2份,氧化剂0.05-0.25份,还原剂0.05-0.25份。
所述反应型阴离子乳化剂为艾迪科SE-10N、花王PD-105、日本乳化剂RE-1000L中的一种或几种按任意比例混合。
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