[发明专利]一种微损伤减缓铝刻蚀侧腐的方法

权利要求书

1.一种微损伤减缓铝刻蚀侧腐的方法，包括以下步骤：

S1、使用光刻胶作为掩膜，利用刻蚀气体在Al表面刻蚀，形成槽；

S2、利用氧化气体对槽壁和槽底的Al进行氧化形成Al₂O₃，本步骤在反应离子刻蚀机中进行，氧化的工艺条件是：氧气流量为80-120sccm，反应离子刻蚀机的输出功率为80-120W，反应离子刻蚀机反应腔的气压为70-90mtorr，氧化时间为5-15min；

S3、利用刻蚀气体对槽底进行刻蚀，首先去除槽底的Al₂O₃，然后对槽底裸露出的Al进行刻蚀，并保留槽壁的Al₂O₃，本步骤在反应离子刻蚀机中进行，刻蚀的工艺条件是：Cl₂的气体流量为40-60sccm，BCl₃的气体流量为110-130sccm，反应离子刻蚀机的输出功率为160-200W，反应离子刻蚀机反应腔的气压为10-20mtorr，刻蚀时间为15-20min；

S4、重复步骤S2和S3，直到刻槽深度达到要求为止。

2.根据权利要求1所述的微损伤减缓铝刻蚀侧腐的方法，其特征在于：步骤S3完成后，在腔体内进行CF₄等离子体处理，置换腔体内刻蚀气体。

3.根据权利要求1所述的微损伤减缓铝刻蚀侧腐的方法，其特征在于：步骤S2和步骤S3交替执行的间隙，使用惰性气体对金属槽进行吹扫。

4.根据权利要求1所述的微损伤减缓铝刻蚀侧腐的方法，其特征在于：步骤S3进行时，向反应离子刻蚀机反应腔内通入侧壁保护剂，所述侧壁保护剂为N₂、CHF₃或CH₄中的一种或其混合，侧壁保护剂通入的流量范围为4-20sccm。

5.根据权利要求1所述的微损伤减缓铝刻蚀侧腐的方法，其特征在于：刻槽结束后，去除金属表面的光刻胶，并清洗。