[发明专利]一种含二噁烷结构的液晶化合物及其合成方法

权利要求书

1.一种含二噁烷结构的液晶化合物，其特征在于，其结构通式如下式A所示：

其中，

R₁表示-C≡CH或-CN；

R₂表示-H、含有1至10个碳原子的烷基或烷氧基，其中一个或更多个-CH₂-可以以氧原子不直接相连的方式各自独立地被-O-或-CO-替代；

X₂、X₃和X₄相同或不同，各自独立地表示-H或-F，且X₂、X₃、X₄中至少一个表示-F；

n表示1、2或3，当n表示2或3时，可以相同或不同。

2.根据权利要求1所述的含二噁烷结构的液晶化合物，其特征在于，所述液晶化合物选自如下通式化合物组：

3.根据权利要求2所述的含二噁烷结构的液晶化合物，其特征在于，所述通式A-1选自如下化合物组：

所述通式A-2选自如下化合物组：

所述通式A-3选自如下化合物组：

4.一种含二噁烷结构的液晶化合物的合成方法，其特征在于，所述合成方法包括如下步骤：

1)将式1的化合物

和式2的化合物

用有机溶剂充分溶解，在惰性气体保护的条件下，加入磷盐，控制温度在0～100℃，滴加偶氮二甲酯，反应0.5～10h，得到式3的化合物

其中，

X₁表示-Br、-I或-Cl；

2)将式3的化合物用混合溶剂溶解，加入强酸，控制温度在20～100℃，反应0.5～10h，得到式4的化合物

3)将强碱分为5～10等份，在反应瓶中加入叶立德磷盐，用有机溶剂溶解，在惰性气体保护条件下，控制温度在-50～50℃，分批加入强碱，搅拌反应0.5～10h，控制温度在-50～50℃，加入事先用有机溶剂溶解的式4的溶液，保温反应0.5～10h，得到式5的化合物

4)将式5的化合物、阻聚剂用有机溶剂溶解，在惰性气体保护条件下，控制温度在0～100℃，滴加强酸，反应0.5～10h小时，得到式6的化合物

5)将式6的化合物和式7的化合物

用混合溶剂溶解，加入碱、催化剂，在惰性气体保护条件下，升温回流反应0.5～10h，得到式8的化合物

6)将式8的化合物和式9的化合物

用有机溶剂溶解，加入强酸后，加装分水装置，升温回流分水反应0.5～10h，得到式A的化合物。

5.根据权利要求4所述的含二噁烷结构的液晶化合物的合成方法，其特征在于，步骤1)所述有机溶剂选自四氢呋喃或甲苯中；步骤1)所述磷盐为三苯基磷；步骤1)所述偶氮二甲酸酯选自偶氮二甲酸二乙酯、偶氮二甲酸二异丙酯、偶氮二甲酸二叔丁酯中的一种或几种。

6.根据权利要求4所述的含二噁烷结构的液晶化合物的合成方法，其特征在于，步骤2)所述混合溶剂分为两个组分，组分A选自甲苯、乙醇、四氢呋喃中的一种或几种，组分B为水；步骤2)所述强酸选自盐酸或对甲苯磺酸中。

7.根据权利要求4所述的含二噁烷结构的液晶化合物的合成方法，其特征在于，步骤3)所述有机溶剂为甲苯；步骤3)所述叶立德磷盐选自氯甲醚膦盐或溴甲醚膦盐；步骤3)所述强碱选自氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钾、碳酸铯、叔丁醇钾中的一种或几种。

8.根据权利要求4所述的含二噁烷结构的液晶化合物的合成方法，其特征在于，步骤4)所述有机溶剂选自四氢呋喃；步骤4)所述阻聚剂选自2,6-二叔丁基对甲酚或对甲氧基苯酚；步骤4)所述强酸选自硫酸、盐酸、对甲苯磺酸中的一种或几种。