[发明专利]一种射频放电系统及其法拉第屏蔽结构在审

专利信息
申请号: 201910112217.4 申请日: 2019-02-13
公开(公告)号: CN109686645A 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 高飞;王友年 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 张德才
地址: 116000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 法拉第屏蔽 金属盖板 射频放电 内介质 放电线圈 金属腔 室壳体 溅射 内置 进气口 等离子体刻蚀 高压打火 功率耦合 金属离子 密封连接 射频功率 耦合效率 沉积 轰击 击穿 刻蚀 桶套 外置
【权利要求书】:

1.一种射频放电系统用法拉第屏蔽结构,其特征在于:所述射频放电系统的金属腔室壳体通过内介质桶和外介质桶与金属盖板密封连接,所述金属盖板上设有进气口,所述外介质桶套设在所述内介质桶外侧,所述外介质桶外侧绕设有放电线圈,所述内介质桶和所述外介质桶之间设有法拉第屏蔽桶,所述法拉第屏蔽桶与所述金属腔室壳体和所述金属盖板连接。

2.根据权利要求1所述的射频放电系统用法拉第屏蔽结构,其特征在于:所述内介质桶和/或所述外介质桶与所述法拉第屏蔽桶之间设有径向间隙,所述径向间隙连通有进水口和出水口,所述进水口用于向所述径向间隙中通入冷却介质,所述出水口用于所述冷却介质流出。

3.根据权利要求2所述的射频放电系统用法拉第屏蔽结构,其特征在于:所述进水口和所述出水口均设置在所述金属盖板上且贯穿所述金属盖板,所述进水口和所述出水口相对于所述径向间隙的轴线对称设置。

4.根据权利要求2所述的射频放电系统用法拉第屏蔽结构,其特征在于:所述冷却介质为去离子水。

5.根据权利要求1所述的射频放电系统用法拉第屏蔽结构,其特征在于:所述法拉第屏蔽桶包括上金属环、下金属环和若干个连接所述上金属环和所述下金属环的金属柱子,所述金属柱子之间设有周向间隙,所述上金属环和所述下金属环分别与所述金属盖板和所述金属腔室壳体连接。

6.根据权利要求5所述的射频放电系统用法拉第屏蔽结构,其特征在于:所述上金属环、所述下金属环和所述金属柱子均为中空结构且彼此连通,所述上金属环或所述下金属环上设有进水口和出水口。

7.根据权利要求5所述的射频放电系统用法拉第屏蔽结构,其特征在于:所述周向间隙为2-10mm。

8.根据权利要求1所述的射频放电系统用法拉第屏蔽结构,其特征在于:所述法拉第屏蔽桶、所述金属腔室壳体和所述金属盖板的材料均为不锈钢,所述法拉第屏蔽桶通过所述金属腔室壳体接地。

9.根据权利要求1所述的射频放电系统用法拉第屏蔽结构,其特征在于:所述外介质桶套和所述内介质桶与所述金属盖板和所述金属腔室壳体之间均设有密封圈,所述金属盖板和所述金属腔室壳体上设有用于卡接所述密封圈、所述外介质桶套和所述内介质桶的环槽。

10.一种射频放电系统,其特征在于:包括如权利要求1-9中任一项所述的射频放电系统用法拉第屏蔽结构,所述放电线圈通过匹配网络连接有射频功率源。

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