[发明专利]用于制造逆反射制品的基材在审
| 申请号： | 201910113764.4 | 申请日： | 2015-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN110133777A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | S·R·查普曼;E·盖里西亚;F·吴 | 申请（专利权）人： | 艾利丹尼森公司 |
| 主分类号： | G02B5/124 | 分类号： | G02B5/124;B29D11/00 |
| 代理公司： | 北京世峰知识产权代理有限公司 11713 | 代理人： | 卓霖;许向彤 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 逆反射制品 凹部 基部 基材 唇缘 棱镜元件阵列 模具制造 参考边 拼接 模具 制造 申请 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于制造逆反射制品的基材，所述基材包括：
包含棱镜元件阵列的表面；
一个或多个凹部，所述一个或多个凹部中的每个凹部至少部分地由参考边来限定；和
基部，所述基部包括唇缘，所述唇缘限定所述基部的周边。
2.根据权利要求1所述的基材，其中所述参考边具有约90°的壁角。
3.根据权利要求1或2所述的基材，其中所述参考边与所述棱镜元件阵列共有共用边。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的基材，其中，所述参考边的高度大于所述棱镜元件阵列的高度。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的基材，其中，所述棱镜阵列的横向尺寸小于所述基部的横向尺寸。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的基材，其中所述棱镜元件阵列由所述一个或多个凹部来界定。
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