[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201910114527.X | 申请日: | 2019-02-14 |
公开(公告)号: | CN109633973B | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 崔婷;涂晓燕;黎明;陈琪 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1347;G02F1/09;G02F1/1343;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,其特征在于,包括交叉设置的栅线和数据线,所述栅线和数据线限定出像素区域,所述像素区域内设置有像素电极和被像素电极驱动的显示单元,还包括:位于所述像素电极上、用于改变所述显示单元的出射光的角度的磁光薄膜;
还包括薄膜晶体管和与所述栅线同层设置的公共电极,所述公共电极与所述像素电极连接,所述薄膜晶体管包括源极、漏极和栅极,所述漏极与所述像素电极连接,所述源极与所述数据线连接,所述栅极与所述栅线连接,
所述栅线输入高电平,所述数据线的信号经过所述薄膜晶体管传输至所述像素电极、以对所述像素电极和所述公共电极形成的像素电容充电,由所述像素电极上的电流产生的磁场使得所述磁光薄膜产生磁光效应、以改变所述阵列基板的出射光的强度。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述像素电极为狭缝电极,所述狭缝电极的形状为直线形或者曲线形。
3.一种阵列基板的制作方法,用于制作权利要求1-2任一项所述的阵列基板,其特征在于,包括以下步骤:
在衬底基板上形成栅极和栅线、以及公共电极;
在所述栅极和所述栅线上形成覆盖整个所述衬底基板的栅绝缘层;
在所述栅绝缘层上形成源极和漏极、以及与所述栅线垂直交叉的数据线;
形成钝化层,并在所述漏极的上方开设钝化层过孔;
形成像素电极,像素电极位于所述栅线和数据线交叉形成的像素区域,且像素电极通过钝化层上的第一过孔与所述漏极连接,像素电极通过钝化层上的第二过孔与所述公共电极连接;
在所述像素电极上形成磁光薄膜。
4.根据权利要求3所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述像素电极为狭缝电极,所述狭缝电极的形状为直线形或者曲线形。
5.一种显示装置,其特征在于,包括:
第一偏光元件,用于将光线转换为线偏振光;
权利要求1-2任一项所述的阵列基板,用于将所述第一偏光元件出射的线偏振光的偏振方向的角度进行偏转;
第二偏光元件,用于遮挡或透过所述阵列基板出射的线偏振光。
6.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述第一偏光元件为偏振片。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其特征在于,所述第二偏光元件为偏振片,且所述第二偏光元件的透光轴方向与所述第一偏光元件的透光轴方向相垂直。
8.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,还包括设置于所述阵列基板和所述第二偏光元件之间的彩色滤光片。
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