[发明专利]用于在高温环境中检测或监测化学前体的设备

权利要求书

1.一种用于监测气体源浓度的装置，其包含：

固体源容器，所述固体源容器含有固体前体并使所述固体前体升华为第一气体前体；

联接于所述固体源容器的气体管线，所述气体管线配置成使所述第一气体前体的第一部分移动到反应室中并使所述第一气体前体的第二部分移动到采样端口中；

联接于所述采样端口的RF源，所述RF源电离所述第一气体前体；

联接于所述RF源的光学发射光谱仪，所述光学发射光谱仪配置成获得所述电离的第一气体前体的光谱；以及

排气泵，其联接于所述RF源并配置成排出所述电离的第一气体前体；

其中所述电离的第一气体前体的浓度基于所述光谱确定。

2.根据权利要求1所述的装置，其进一步包含加热器以加热连接于所述RF源的所述气体管线的一部分。

3.根据权利要求1所述的装置，其进一步包含多个阀以控制来自所述固体源容器的所述第一气体前体的流动。

4.根据权利要求1所述的装置，其中所述RF源包含以下中的至少一种：电感耦合等离子体源；电容耦合等离子体源；微波源；或热丝灯气体离子发生器。

5.根据权利要求1所述的装置，其进一步包含安置在所述RF源与所述排气泵之间的流量限制器。

6.根据权利要求1所述的装置，其进一步包含将所述RF源联接于所述光学发射光谱仪的光纤。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所述光纤包含：

光传输部分；

吹扫气体通道；

外护套；

附接于所述光传输部分的宽视角光纤；以及

附接于所述外护套的吹扫喷嘴。

8.根据权利要求1所述的装置，其进一步包含加热的真空罩以固持至少所述固体源容器。

9.根据权利要求8所述的装置，其进一步包含在所述加热的真空罩内的流量限制器。

10.根据权利要求1所述的装置，其进一步包含惰性气体源，所述惰性气体源配置成为所述第一气体前体提供惰性载气。

11.一种用于在半导体晶片上沉积膜的设备，其包含：

第一反应室，其被配置为固持第一半导体晶片；

第一气体源，其被配置为向所述第一反应室提供第一气体前体；

第二气体源，其被配置为向所述第一反应室提供第二气体前体，所述第二气体源包含第一固体源容器，所述第一固体源容器含有固体前体并使所述固体前体升华为所述第二气体前体；

联接于所述第一固体源容器的第一气体管线，所述第一气体管线配置成使所述第二气体前体的第一部分移动到所述第一反应室中，并使所述第二气体前体的第二部分移动到第一采样端口中；

联接于所述第一采样端口的RF源，所述RF源电离所述第二气体前体；

联接于所述RF源的光学发射光谱仪，所述光学发射光谱仪配置成获得所述电离的第二气体前体的光谱；以及

排气泵，其联接于所述RF源并配置成排出所述电离的第二气体前体；

其中所述电离的第二气体前体的浓度基于所述光谱确定。

12.根据权利要求11所述的设备，其中所述RF源包含以下中的至少一种：电感耦合等离子体源；电容耦合等离子体源；微波源；或热丝灯气体离子发生器。

13.根据权利要求11所述的设备，其进一步包含安置在所述RF源与所述排气泵之间的流量限制器。

14.根据权利要求11所述的设备，其进一步包含将所述RF源联接于所述光学发射光谱仪的光纤。