[发明专利]一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具在审
申请号: | 201910119502.9 | 申请日: | 2019-02-18 |
公开(公告)号: | CN109609999A | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 叶嘉豪;陆旺;李辉 | 申请(专利权)人: | 成都泰美克晶体技术有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00 |
代理公司: | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人: | 白桂林 |
地址: | 610031 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 底板 直角靠板 大片 提拉法 光刻 烘胶 治具 长度方向间隔 等腰三角形 底板四角 底板中部 两侧边缘 接触点 矩形状 破片率 粘胶 支脚 | ||
1.一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具,其特征在于,包括呈矩形状的底板,分别安装于所述底板四角下方的四个支脚,多个沿着所述底板的长度方向间隔设置于所述底板两侧边缘的第一V形定位块和第二V形定位块以及一个沿着所述底板的长度方向固定安装于所述底板中部上方的直角靠板,其中,所述第一V形定位块、第二V形定位块和直角靠板固定有3英寸大片,且所述第一V形定位块、第二V形定位块和所述3英寸大片与所述直角靠板的接触点间形成等腰三角形。
2.根据权利要求1所述的用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具,其特征在于,所述直角靠板还包括沿着所述直角靠板的长度方向且靠近所述底板一侧开设的多个方形通孔。
3.根据权利要求2所述的用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具,其特征在于,所述直角靠板还包括沿着所述直角靠板的长度方向且远离所述底板一侧开设的多个第一圆形通孔,其中,所述第一圆形通孔的直径小于所述方形通孔的长度。
4.根据权利要求1所述的用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具,其特征在于,所述底板在所述直角靠板的两侧开设有多个第二圆形通孔,所述多个第二圆形通孔沿着所述底板的长度方向间隔设置。
5.根据权利要求1所述的用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具,其特征在于,所述第一V形定位块和第二V形定位块的V形夹角分别在45-60度之间。
6.根据权利要求1所述的用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具,其特征在于,所述四个支脚分别通过第一内六角螺栓固定安装于所述底板的四角下方。
7.根据权利要求1所述的用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具,其特征在于,所述多个第一V形定位块和第二V形定位块分别通过第二内六角螺栓固定安装于所述底板上。
8.根据权利要求1所述的用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具,其特征在于,所述底板由聚四氟乙烯和镀铝不锈钢材料制成而成。
9.根据权利要求1所述的用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具,其特征在于,所述3英寸大片包括晶体片、非晶体片、陶瓷片或金属片。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都泰美克晶体技术有限公司,未经成都泰美克晶体技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910119502.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种罗丹明B内酯单晶室温生长方法
- 下一篇:一种热场供热稳定的单晶炉