[发明专利]一种阵列基板、其制作方法及显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上呈阵列排布的多个子像素区域，以及与所述子像素区域对应设置的第一电极；

每个所述子像素区域均包括依次位于所述衬底基板上的功能层和透明阻挡层；

所述功能层包括多个呈阵列排布的开口，所述透明阻挡层包括与所述开口一一对应设置的过孔；

所述过孔满足，在所述第一电极不施加电压时，阻挡位于所述透明阻挡层上的量子点溶液进入所述开口，在所述第一电极施加的电压与位于所述透明阻挡层上的所述量子点溶液极性相反，允许所述量子点溶液进入所述开口。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述开口的直径大于所述过孔的直径。

3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述功能层包括层叠设置的多个子功能层，且在所述衬底基板指向所述透明阻挡层的方向上各所述子功能层的疏液性依次增加。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电极为多个条状电极，且各所述条状电极位于任一列所述开口的两侧。

5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，还包括：位于相邻所述子像素区域之间，且沿列方向排列的第二条状电极。

6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电极与所述第二条状电极同层设置。

7.如权利要求1-6任一项所述的阵列基板，其特征在于，在相邻所述子像素区域之间，所述透明阻挡层具有沿行方向排列的多个导流槽。

8.如权利要求1-6任一项所述的阵列基板，其特征在于，还包括：位于所述功能层与所述衬底基板之间缓冲层，其中，所述缓冲层具有亲液性。

9.一种如权利要求1-8任一项所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板，并在所述衬底基板上形成功能层、第一电极和透明阻挡层；

通过一次构图工艺在所述透明阻挡层上形成过孔，在所述功能层上形成开口；

在所述透明阻挡层上涂覆与一种颜色的子像素区域对应的带电量子点溶液，并向该颜色子像素区域内的所述第一电极施加与所述量子点溶液极性相反的电压，向其他颜色子像素区域内的所述第一电极施加与所述量子点溶液极性相同的电压。

10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的阵列基板。