[发明专利]纳米二氧化硅修饰的3D打印气管支架及其制备方法在审
| 申请号： | 201910122543.3 | 申请日： | 2019-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN109821064A | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 仲毅;史宏灿;卢丹;潘枢;单一波 | 申请（专利权）人： | 扬州大学 |
| 主分类号： | A61L27/18 | 分类号： | A61L27/18;A61L27/30;A61L27/50;B33Y10/00;B33Y80/00 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 顾伯兴 |
| 地址： | 215001 江苏省扬州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气管支架 打印 制备 纳米二氧化硅 修饰 支架 纳米表面修饰 生物相容性 多孔气管 理想材料 气管重建 生物力学 组织工程 埋植 体内 细胞 生长 | ||
【权利要求书】：
1.一种纳米二氧化硅修饰的3D打印气管支架，其特征在于，所述3D打印气管支架以PCL材料制成，该3D打印气管支架的孔径为200 µm。
2. 如权利要求1所述的一种纳米二氧化硅修饰的3D打印气管支架的制备方法，其特征在于，具体包括两个步骤：
（1）多孔气管支架的制备
选用PCL为材料，采用打印喷头在旋转轴上打印的方式进行打印，旋转轴以一定的速度转动，打印喷头沿旋转轴来回移动，先在旋转轴上打印出底层气管支架，然后旋转轴与打印底层时的旋转方向相反进行运动，打印成形第二层气管支架，继而与上一层形成多孔结构，以此重复打印6层；
（2） PCL支架的纳米二氧化硅修饰
将PCL支架于浓度为10%的纳米二氧化硅溶液中浸泡过夜，第二天取出后室温放置，5 d后缩合反应完全，形成纳米二氧化硅修饰的PCL支架，记PCL-NM。
3. 如权利要求2所述的一种纳米二氧化硅修饰的3D打印气管支架的制备方法，其特征在于，气管支架的孔径通过改变旋转轴的转速和打印头的行走速度进行调节，打印速度为3-10 mm/s。
4.如权利要求2所述的一种纳米二氧化硅修饰的3D打印气管支架的制备方法，其特征在于，所述步骤1中打印温度为85-95℃。
5. 如权利要求2所述的一种纳米二氧化硅修饰的3D打印气管支架的制备方法，其特征在于，所述步骤1中打印成型的气管支架的层厚为0.08-0.12 mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州大学，未经扬州大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910122543.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
