[发明专利]玻璃窑炉及玻璃窑炉的控制方法

说明书

本发明实施例提供一种玻璃窑炉及玻璃窑炉的控制方法，涉及玻璃制造技术领域。所述玻璃窑炉包括：熔化池，一端设置有加料口，另一端与流液洞相连接，澄清池，一端设置有出料口，另一端通过所述流液洞与所述熔化池相连接；以及加热模块，包括第一加热模块和第二加热模块，用于将所述熔化池内的原料熔化成玻璃液，并通过加热使所述原料中的澄清剂释放出气体。通过上述技术方案，在现有窑炉仅包含熔化池的基础上，又增设了流液洞和澄清池，可以使得玻璃液在进入通道之前，就可以进行玻璃液澄清过程，有效降低玻璃液中的气泡率，减少气泡缺陷的发生，提高生产效率。

技术领域

本发明涉及玻璃制造技术领域，具体地涉及一种玻璃窑炉及玻璃窑炉的控制方法。

背景技术

在TFT、LTPS基板玻璃和光学玻璃的制造过程中，玻璃在窑炉内被熔化，熔化后的玻璃液流向通道、成型病被制成玻璃基板。由于目前TFT、LTPS玻璃基板均采用了更加环保的原料，而作为新的澄清剂的金属氧化物需要更高的澄清温度，所以急需在提高玻璃液的澄清温度的同时，提高良品率，来满足市场的需要。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种玻璃窑炉及玻璃窑炉的控制方法，用于解决上述技术问题中的一者或多者。

为了实现上述目的，本发明实施例提供一种玻璃窑炉，所述玻璃窑炉包括：熔化池，一端设置有加料口，另一端与流液洞相连接，澄清池，一端设置有出料口，另一端通过所述流液洞与所述熔化池相连接；以及加热模块，包括第一加热模块和第二加热模块，用于将所述熔化池内的原料熔化成玻璃液，并通过加热使所述原料中的澄清剂释放出气体。

可选的，所述澄清池包括：窑坎，所述窑坎设置在所述澄清池的底部内壁，用于降低位于所述窑坎上部的玻璃液的厚度。

可选的，所述窑坎的高度为30mm至100mm；所述窑坎上表面距离玻璃液液面的高度为50mm至100mm。

可选的，所述窑坎的高度为50mm至80mm，所述窑坎上表面距离玻璃液液面的高度为70mm至100mm，或者所述窑坎的高度为30mm至50mm，所述窑坎上表面距离玻璃液液面的高度为50mm至80mm。

可选的，所述加热模块包括：烧枪，所述烧枪设置在所述熔化池和所述澄清池壁面上，且所述烧枪所在位置高于所述玻璃液液面，所述烧枪端部伸入所述熔化池和所述澄清池内以对所述熔化池和所述澄清池内的上部空气进行加热；以及电极，所述电极设置在所述熔化池和所述澄清池壁面上且设置为至少部分能够与池内玻璃液相接触。

可选的，所述电极设置在所述烧枪的下方。

可选的，第一多个烧枪对称地设置在所述熔化池壁面上，第二多个烧枪对称地设置在所述澄清池壁面上；第一多个电极对称地设置在所述熔化池壁面上，第二多个电极对称地设置在所述澄清池壁面上。

可选的，所述玻璃窑炉还包括：温度检测模块，用于检测所述熔化池和所述澄清池内的玻璃液的温度。

可选的，所述温度检测模块为热电偶，所述热电偶包括用于所述熔化池和所述澄清池的上部的热电偶AT和位于所述熔化池和所述澄清池的底部的热电偶BT。

另一方面，本发明实施了还提供一种用于上述中任一项上述的玻璃窑炉的控制方法，所述方法包括：控制所述第一加热模块，使所述熔化池内的温度处于第一预设温度范围，以使得进入所述熔化池内的原料熔化成玻璃液并且使得所述原料中的澄清剂释放出气体，在所述玻璃液流经所述流液洞时，所述澄清剂释放出的气体与所述玻璃液中的气泡碰撞并聚合；控制所述第二加热模块，使所述澄清池内的温度处于第二预设温度范围，以使得所述玻璃液中的气泡从所述玻璃液中排除。