[发明专利]一次真空蒸馏制备6N高纯铟的方法在审
| 申请号： | 201910123218.9 | 申请日： | 2019-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN109735724A | 公开（公告）日： | 2019-05-10 |
| 发明（设计）人： | 彭巨擘;卢兴伟;张启旺;伍美珍;雷云;周京明;陈丽诗 | 申请（专利权）人： | 云南锡业集团（控股）有限责任公司研发中心 |
| 主分类号： | C22B9/02 | 分类号： | C22B9/02;C22B9/04;C22B58/00 |
| 代理公司： | 昆明大百科专利事务所 53106 | 代理人： | 苏芸芸 |
| 地址： | 650000 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空蒸馏 高纯铟 制备 饱和蒸气压 金属元素 扩大生产 真空状态 金属铟 可控性 排放 | ||
【权利要求书】：
1.一种一次真空蒸馏制备6N高纯铟的方法，其特征在于：以4N金属铟为原料，通过一次真空蒸馏制得6N高纯铟。
2.根据权利要求1所述的一次真空蒸馏制备6N高纯铟的方法，其特征在于，具体步骤如下：
（1）将装有4N金属铟的石墨坩埚置于炉内，抽真空至炉内真空度≤20Pa；
（2）以15℃/min～25℃/min的升温速率将温度升至温至1150℃～1600℃，并在1150℃～1600℃下保温20min～90min，保温完成后冷却，对石墨坩埚内的金属铟进行收集、干燥，即得6N高纯铟。
3.根据权利要求2所述的一次真空蒸馏制备6N高纯铟的方法，其特征在于：步骤（1）中石墨坩埚为高纯石墨坩埚，纯度＞99.99%。
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