[发明专利]一种地层圈闭的刻画方法及系统有效
申请号: | 201910124321.5 | 申请日: | 2019-02-19 |
公开(公告)号: | CN109917455B | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 马跃华;李洪革;李玉海;李振永;吴丽颖;臧明峰 | 申请(专利权)人: | 中国石油天然气集团有限公司;中国石油集团东方地球物理勘探有限责任公司 |
主分类号: | G01V1/28 | 分类号: | G01V1/28;G01V1/30 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王涛;任默闻 |
地址: | 100007 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 地层 圈闭 刻画 方法 系统 | ||
1.一种地层圈闭的刻画方法,其特征在于,包括:
获取可识别倾斜地层、所述可识别倾斜地层对应的调谐点及层拉平目标层;所述调谐点包括:所述可识别倾斜地层的振幅最大值点或所述可识别倾斜地层的振幅最小值点;
将所述可识别倾斜地层延伸与所述层拉平目标层相交生成地层倾视角及尖灭点;
根据所述地层倾视角及获取的所述调谐点对应的调谐厚度按照三角定律计算生成地层圈闭边界;
根据所述地层圈闭边界进行刻画生成地层圈闭;
其中,所述获取可识别倾斜地层、所述可识别倾斜地层对应的调谐点及层拉平目标层,包括:获取原始地震剖面的目标层及若干倾斜地层;所述目标层包括:不整合面层或超覆面层;根据所述目标层对所述原始地震剖面进行层拉平生成所述层拉平目标层及所述可识别倾斜地层;所述可识别倾斜地层为层拉平后的原始地震剖面倾斜地层中分辨效果最佳的一倾斜地层;根据所述可识别倾斜地层获取所述调谐点;
所述根据所述地层倾视角及获取的所述调谐点对应的调谐厚度按照三角定律计算生成地层圈闭边界,包括:根据所述层拉平目标层及所述调谐点计算生成所述调谐点对应的调谐厚度;根据所述调谐点、所述尖灭点、所述调谐厚度及所述地层倾视角利用三角定理计算生成所述地层圈闭边界;
根据所述层拉平目标层及所述调谐点计算生成所述调谐点对应的调谐厚度,包括:获取所述层拉平目标层的层速度及所述原始地震剖面的调谐频率;根据所述层速度及所述调谐频率计算生成所述调谐厚度。
2.根据权利要求1所述的地层圈闭的刻画方法,其特征在于,所述根据所述地层圈闭边界进行刻画生成地层圈闭,包括:
根据所述地层圈闭边界计算生成地层圈闭扩增面积;
根据所述地层圈闭扩增面积进行刻画生成地层圈闭。
3.根据权利要求1所述的地层圈闭的刻画方法,其特征在于,所述调谐厚度的计算公式如下:
h=v/4f0
其中,h为所述调谐厚度,v为所述层拉平目标层的层速度,f0为所述原始地震剖面的调谐频率。
4.一种地层圈闭的刻画系统,其特征在于,包括:
获取单元,用于获取可识别倾斜地层、所述可识别倾斜地层对应的调谐点及层拉平目标层;所述调谐点包括:所述可识别倾斜地层的振幅最大值点或所述可识别倾斜地层的振幅最小值点;
延伸单元,用于将所述可识别倾斜地层延伸与所述层拉平目标层相交生成地层倾视角及尖灭点;
计算单元,用于根据所述地层倾视角及获取的所述调谐点对应的调谐厚度按照三角定律计算生成地层圈闭边界;
刻画单元,用于根据所述地层圈闭边界进行刻画生成地层圈闭;
其中,所述获取单元包括:
第一获取模块,用于获取原始地震剖面的目标层及若干倾斜地层;所述目标层包括:不整合面层或超覆面层;
拉平模块,用于根据所述目标层对所述原始地震剖面进行层拉平生成所述层拉平目标层及所述可识别倾斜地层;所述可识别倾斜地层为层拉平后的原始地震剖面倾斜地层中分辨效果最佳的一倾斜地层;
第二获取模块,用于根据所述可识别倾斜地层获取所述调谐点;
所述计算单元包括:
厚度生成模块,用于根据所述层拉平目标层及所述调谐点计算生成所述调谐点对应的调谐厚度;
边界生成模块,用于根据所述调谐点、所述尖灭点、所述调谐厚度及所述地层倾视角利用三角定理计算生成所述地层圈闭边界;
所述厚度生成模块包括:
获取子模块,用于获取所述层拉平目标层的层速度及所述原始地震剖面的调谐频率;
生成子模块,用于根据所述层速度及所述调谐频率计算生成所述调谐厚度。
5.根据权利要求4所述的地层圈闭的刻画系统,其特征在于,所述刻画单元包括:
面积生成模块,用于根据所述地层圈闭边界计算生成地层圈闭扩增面积;
刻画模块,用于根据所述地层圈闭扩增面积进行刻画生成地层圈闭。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国石油天然气集团有限公司;中国石油集团东方地球物理勘探有限责任公司,未经中国石油天然气集团有限公司;中国石油集团东方地球物理勘探有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910124321.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。