[发明专利]承载基板及制作方法、柔性基板及制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201910125372.X 申请日: 2019-02-20
公开(公告)号: CN109904352B 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 代青 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32;G02F1/1333;G09F9/30
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 袁礼君;阚梓瑄
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 承载 制作方法 柔性 显示装置
【权利要求书】:

1.一种承载基板,其特征在于,包括:

衬底,其包括第一面和与所述第一面相对的第二面;

结合部,设于所述第二面,所述结合部包括磁性粒子,所述磁性粒子能够在外部磁场的作用下发生转动,所述结合部还包括粘附剂,所述粘附剂粘贴于所述第二面,且所述粘附剂内包裹有所述磁性粒子,所述磁性粒子能够在所述粘附剂内转动;其中,所述磁性粒子包括第一部和第二部,所述第一部包括疏液部,所述第二部包括亲液部,所述疏液部或所述亲液部上设置有磁性涂层;

所述第一部在朝向背离所述第一面的一侧时,能够减弱所述结合部与柔性衬底之间的结合力;

所述第二部在朝向背离所述第一面的一侧时,能够增强所述结合部与所述柔性衬底之间的结合力。

2.根据权利要求1所述的承载基板,其特征在于,

所述第一部与所述第二部相对设置,所述第一部或所述第二部具有磁性。

3.根据权利要求1所述的承载基板,其特征在于,所述粘附剂内包裹有多个所述磁性粒子,各所述磁性粒子中的所述第一部的朝向相同,且各所述磁性粒子中的所述第二部的朝向相同。

4.根据权利要求1所述的承载基板,其特征在于,所述第二面上形成有凹槽,所述结合部设于所述凹槽,所述结合部与所述凹槽的边沿平齐或凸出所述凹槽的边沿。

5.根据权利要求4所述的承载基板,其特征在于,所述衬底包括第一层及第二层,所述第二层形成在所述第一层上,所述第二层上背离所述第一层的面为所述第二面,其中,所述第二层的刚性小于所述第一层的刚性。

6.根据权利要求5所述的承载基板,其特征在于,所述第二层为光刻胶。

7.一种承载基板的制作方法,其特征在于,包括:

形成衬底,所述衬底包括第一面和与所述第一面相对的第二面;

形成结合部,所述结合部包括磁性粒子,所述结合部还包括粘附剂,所述粘附剂粘贴于所述第二面,且所述粘附剂内包裹有所述磁性粒子,所述磁性粒子能够在所述粘附剂内转动;所述磁性粒子包括第一部和第二部;所述第一部包括疏液部,所述第二部包括亲液部,所述疏液部或所述亲液部上设置有磁性涂层;

将所述结合部设于所述衬底的第二面;

其中,所述磁性粒子能够在外部磁场的作用下发生转动,

所述第一部在朝向背离所述第一面的一侧时,能够减弱所述结合部与柔性衬底之间的结合力;

所述第二部在朝向背离所述第一面的一侧时,能够增强所述结合部与所述柔性衬底之间的结合力。

8.根据权利要求7所述的承载基板的制作方法,其特征在于,在将所述结合部设于所述衬底的第二面之前,还包括;

在所述衬底的所述第二面上形成有凹槽;

其中,所述结合部设于所述凹槽,所述结合部与所述凹槽的边沿平齐或凸出所述凹槽的边沿。

9.根据权利要求8所述的承载基板的制作方法,其特征在于,所述形成衬底,包括:

提供一第一层;

在所述第一层的一侧形成第二层,所述第二层上背离所述第一层的面为所述第二面,其中,所述第二层的刚性小于所述第一层的刚性。

10.根据权利要求9所述的承载基板的制作方法,其特征在于,

所述第二层为光刻胶;

其中,在所述衬底的所述第二面上形成凹槽,包括:

采用光刻工艺在所述第二面上形成所述凹槽。

11.根据权利要求8所述承载基板的制作方法,其特征在于,将所述结合部设于所述衬底的第二面,包括:

采用涂覆方式将所述结合部填充于所述凹槽,所述结合部与所述凹槽的边沿平齐。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910125372.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top