[发明专利]基板清洗机有效

专利信息
申请号: 201910126483.2 申请日: 2019-02-20
公开(公告)号: CN109772794B 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 陈国梁 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B1/00;B08B11/04
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 清洗
【权利要求书】:

1.一种基板清洗机,其特征在于,包括水洗单元,所述水洗单元包括:

水刀单元,包括水刀喷头以及水刀盖板,用于清洗基板表面;

毛刷单元,用于去除所述基板表面的颗粒;

盖板清洗单元,用于使用清洗溶液清洗所述水刀盖板表面;

其中,所述盖板清洗单元包括第一盖板清洗单元和第二盖板清洗单元,所述第一盖板清洗单元设置在所述水刀单元内,所述第二盖板清洗单元设置在毛刷单元内;

所述盖板清洗单元包括清洗喷头,所述清洗喷头用于喷洒清洗溶液清洗所述水刀盖板表面;

所述清洗喷头为喷嘴;

所述喷嘴的截面形状为圆形或椭圆形。

2.根据权利要求1所述的基板清洗机,其特征在于,所述清洗喷头为阵列设置。

3.根据权利要求1所述的基板清洗机,其特征在于,所述清洗喷头设置在所述水刀喷头远离所述基板的方向上。

4.根据权利要求1所述的基板清洗机,其特征在于,还包括连接清洗喷头的清洗管道,所述清洗管道上设置有逆止阀。

5.根据权利要求1所述的基板清洗机,其特征在于,所述第一盖板清洗单元设置在所述第二盖板清洗单元远离所述基板的方向上。

6.根据权利要求1所述的基板清洗机,其特征在于,所述第二盖板清洗单元设置在所述第一盖板清洗单元远离所述基板的方向上。

7.根据权利要求1所述的基板清洗机,其特征在于,所述第一盖板清洗单元所使用的清洗溶剂为纯水,所述第二盖板清洗单元所使用的清洗溶剂为循环水。

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