[发明专利]低压等离子体腔及其制造方法和低压等离子体设备

权利要求书

1.一种用于低压等离子体设备(10)的低压等离子体腔(12)，该低压等离子体设备用于对低压等离子体腔(12)中的构件(20)进行等离子体处理，其中，所述低压等离子体腔(12)具有由玻璃或瓷器材料制成的低压等离子体腔本体(14)，其特征在于，所述低压等离子体腔本体(14)的横截面构成为四边形、尤其是矩形。

2.如权利要求1所述的低压等离子体腔，其中，所述低压等离子体腔本体(14)长形地沿其纵轴线(30)延伸。

3.如权利要求2所述的低压等离子体腔，其中，所述低压等离子体腔本体(14)的横截面构成为沿着低压等离子体腔本体的纵轴线在大于40％上、尤其是大于60％上、尤其优选地大于80％上相同。

4.如前述权利要求中任一项所述的低压等离子体腔，其中，所述低压等离子体腔(12)具有能在没有工具的情况下可逆地打开和关闭的门(24)，所述门尤其是具有至少一个介质接头(28、44、46)。

5.如权利要求4所述的低压等离子体腔，其中，所述低压等离子体腔本体(14)具有开口(32)，所述开口具有凸缘(38)，所述低压等离子体腔(12)的门(24)固定在所述凸缘上、尤其是固定在凸缘(38)中的至少一个孔(40a-40d)上。

6.如前述权利要求中任一项所述的低压等离子体腔，其中，所述低压等离子体腔本体(14)具有由玻璃或瓷器材料制成的至少部分地封闭的后壁(34)。

7.如权利要求6所述的低压等离子体腔，其中，所述低压等离子体腔本体(14)的后壁(34)具有板形的后壁封闭部(42)，所述后壁封闭部(42)插入在低压等离子体腔本体(14)中的后壁开口(36)中，其中，所述后壁封闭部(42)优选地具有至少一个介质接头(28、44、46)。

8.如前述权利要求中任一项所述的低压等离子体腔，其中，所述低压等离子体腔本体(14)由钙-碳酸钠-玻璃、硼硅玻璃或石英玻璃构成。

9.一种低压等离子体设备(10)，其具有如前述权利要求中任一项所述的低压等离子体腔(12)，其中，所述低压等离子体设备(10)具有与低压等离子体腔(12)相连接的真空泵、与低压等离子体腔(12)相连接的气体供给部和/或与低压等离子体腔(12)相连接的等离子体电压源(22)。

10.一种用于制造低压等离子体腔(12)的方法，所述低压等离子体腔尤其是如权利要求1至8中任一项所述的低压等离子体腔，其中，以压制方法或吹制-吹制方法制造所述低压等离子体腔本体(14)。

11.如权利要求10所述的方法，其中，在压制方法中使用多件式的模具，其中，所述模具具有型模、冲模和盖环。

12.如权利要求11所述的方法，其中，不同地对模具部件调温，其中，尤其是，冷却型模和冲模，并且尤其是加热盖环。

13.如权利要求10所述的方法，其中，在吹制-吹制方法中，进行如下方法步骤：

a)填充坯件；

b)固定吹制；

c)预吹制；

d)最后吹制。