[发明专利]一种IC装备等离子体刻蚀腔防护涂层的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910130903.4 申请日: 2019-02-22
公开(公告)号: CN109825827A 公开(公告)日: 2019-05-31
发明(设计)人: 熊天英;崔新宇;沈艳芳;王吉强;杜昊;祁建忠;杨颖 申请(专利权)人: 沈阳富创精密设备有限公司
主分类号: C23C24/04 分类号: C23C24/04;C22C29/12
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 俞鲁江
地址: 110000 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 等离子体刻蚀腔 防护涂层 冷喷涂 制备 沉积 金属陶瓷复合涂层 等离子体 芯片 控制工艺过程 腐蚀性气体 表面形成 沉积效率 粉末粒度 粉末喷涂 高速沉积 工作气体 混和均匀 混合粉末 基体表面 金属陶瓷 刻蚀腔体 喷涂距离 气体压力 使用寿命 随意调节 压缩空气 喷涂 腐蚀 污染 生产
【权利要求书】:

1.一种IC装备等离子体刻蚀腔防护涂层的制备方法,其特征在于,采用Al和Y2O3-ZrO2的混合粉末制备等离子刻蚀腔体表面防护涂层,利用高速气流将Al和Y2O3-ZrO2的混合粉末直接喷涂于等离子刻蚀腔体表面,喷涂参数为:使用压缩空气为工作气体,气体温度为200-600℃,气体压力为1.5-3.0MPa,喷涂距离为10-60mm,使混合粉末沉积在等离子刻蚀腔的内表面上,形成均匀分布的防护涂层;其中,Al粉末和Y2O3-ZrO2粉末的重量比例为0.1-1:1;其中Y2O3-ZrO2粉末中,Y2O3与ZrO2粉末的重量比为3-5:1。

2.根据权利要求1所述的一种IC装备等离子体刻蚀腔防护涂层的制备方法,其特征在于:

(1)微米级混合粉末的制备:

将Al粉末和Y2O3-ZrO2粉末按照重量比例为0.1-1:1比例混合,在Y2O3-ZrO2粉末中,Y2O3与ZrO2粉末的重量比为3~5:1,经干燥得到微米级混合粉末,粉末粒度1~50μm;

(2)冷喷涂沉积等离子体刻蚀腔防护涂层:

将步骤(1)得到的微米级混合粉末经压缩空气预热后沉积在刻蚀腔材料内表面,获得离子体刻蚀腔防护涂层;所述冷喷涂沉积过程中:使用压缩空气作为工作气体,工作气体温度为200-600℃,工作气体压力为1.5-3.0MPa,喷涂距离为10-60mm。

3.根据权利要求1所述的一种IC装备等离子体刻蚀腔防护涂层的制备方法,其特征在于:等离子体刻蚀腔防护涂层的喷涂装置,具有进气管1、加热器2、送粉器5、电磁阀6、超音速喷嘴4、控制柜1;进气管的一端与空气压缩机相连,另一端与送粉器、加热器、超音速喷嘴相连,进气管置于加热器中的部分为螺旋形结构。

4.根据权利要求1所述的一种IC装备等离子体刻蚀腔防护涂层的制备方法,其特征在于:制备等离子体刻蚀腔防护涂层的过程中,由空气压缩机输出的工作气体分为两路,一路进入加热器,经预热后气体进入超音速喷嘴的混合腔;另一路进入送粉器,作为载气将粉末引入超音速喷嘴与第一路经过预热的气体相混合,将粉末瞬时预热后,经过超音速喷嘴的缩放区,膨胀加速,形成超音速气固双相流,高速撞击刻蚀腔材料内表面使粉末发生剧烈变形实现沉积,并在刻蚀腔材料内表面形成复合型防护涂层。

5.根据权利要求4所述的一种IC装备等离子体刻蚀腔防护涂层的制备方法,其特征在于:防护涂层的孔隙率低于2%,陶瓷涂层与基体材料的界面结合强度为20-50MPa,涂层厚度为10-400μm。

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