[发明专利]具有窄带发射的发色聚合物点

权利要求书

1.一种聚合物点，其包含：

含有窄带单体的缩合发色聚合物，该缩合发色聚合物具有半高宽(FWHM)小于约70纳米的发射光谱，其中所述窄带单体的数量与其他单体的数量之比为1:25至1：1000。

2.如权利要求1所述的聚合物点，其特征在于，所述发色聚合物是均聚物或杂聚物。

3.如权利要求1所述的聚合物点，其特征在于，所述发色聚合物还包含第一普通单体、第二普通单体或其组合，其中第一和第二普通单体具有半高宽大于70纳米的发射光谱。

4.如权利要求3所述的聚合物，其特征在于，所述窄带单体、第一普通单体、第二普通单体或其组合结合在发色聚合物的骨架中。

5.如权利要求3所述的聚合物点，其特征在于，所述第一普通单体和第二普通单体各自选自下组：芴、芴衍生物、亚苯基亚乙烯基、亚苯基亚乙烯基衍生物、亚苯基、亚苯基衍生物、苯并噻二唑、苯并噻二唑衍生物、噻吩、噻吩衍生物、咔唑芴、和咔唑芴衍生物。

6.如权利要求3所述的聚合物点，其特征在于，所述窄带单体相对于总普通单体的比例为小于约0.1：1。

7.如权利要求1-6中任一项所述的聚合物点，其特征在于，所述聚合物点的量子产率大于约10％，大于约20％，大于约30％，大于约40％，大于约50％，大于约70％，或大于约90％。

8.如权利要求1-6中任一项所述的聚合物点，其特征在于，所述窄带单体是BODIPY衍生物。

9.如权利要求8所述的聚合物点，其特征在于，所述BODIPY衍生物具有下式：

其中各R¹、R^2A、R^2B、R^3A、R^3B、R^4A和R^4B独立选自氢、烷基、芳烷基、芳基和烷氧基-芳基，其中通过与R¹、R^2A、R^2B、R^3A、R^3B、R^4A、R^4B或其组合的连接将BODIPY衍生物结合于发色聚合物。

10.如权利要求1-6中任一项所述的聚合物点，其特征在于，所述窄带单体是方酸菁衍生物。

11.如权利要求10所述的聚合物点，其特征在于，所述方酸菁衍生物具有下式：

其中各X¹和X²独立选自氧、硫和氮；各R^1A和R^1B独立选自但并不限于亚烷基、亚烯基、亚芳基、杂亚芳基、亚苯基、甘菊环、环亚烷基和杂环亚烷基；各R^2A和R^2B是独立选自但并不限于以下的反应性基团：卤化物、羟基和氨基，其中通过与R^1A、R^1B、R^2A、R^2B或其组合的连接将方酸菁衍生物结合于发色聚合物。

12.如权利要求1-6中任一项所述的聚合物点，其特征在于，所述窄带单体是金属络合物衍生物、卟啉衍生物、金属卟啉衍生物、苝衍生物或菁衍生物。

13.如权利要求1-6中任一项所述的聚合物点，其特征在于，所述缩合发色聚合物还包含使该缩合发色聚合物表面能用于共轭或生物共轭的官能团。

14.如权利要求13所述的聚合物点，其特征在于，所述官能团是疏水性官能团。