[发明专利]薄膜扩散阻挡层

权利要求书

1.一种生产在弹性衬底上含涂层的物质扩散阻挡层的方法，包括：

A)将所述弹性衬底暴露于阳离子溶液以在所述弹性衬底上生成阳离子层，其中所述阳离子溶液包含聚合物、胶粒、纳米颗粒或其任何组合以及第一盐，所述第一盐选自NaCl、KCl及其组合，其中第一盐在阳离子溶液中以约1毫摩尔至约100毫摩尔的浓度存在；和

B)将所述阳离子层暴露于阴离子溶液以在所述阳离子层上生成阴离子层，其中所述阴离子溶液包含阴离子聚合物、第二胶粒或其任何组合以及第二盐，其中所述第二盐包含离子，所述离子包括CO₃^2-、F^-、SO₄^2-、H₂PO₄^2-、C₂H₃O₂^-、Cl^-、NO₃^-、Br^-、ClO₃^-、I^-、ClO₄^-、SCN^-、S₂O₃^2-或其任何组合；并且其中所述涂层包括含所述阳离子层和所述阴离子层的双层；

其中双层包括物质扩散阻挡层；和

其中双层包括介于约0.005cc/(m²*天*atm)和约5,000cc/(m²*天*atm)之间的气体透过率。

2.根据权利要求1所述的方法，其中聚合物包括支化聚乙烯亚胺、线性聚乙烯亚胺、阳离子聚丙烯酰胺、阳离子聚二烯丙基二甲基氯化铵、聚(烯丙胺)、聚(烯丙胺)盐酸盐、聚(乙烯胺)、聚(丙烯酰胺-共-二烯丙基二甲基氯化铵)或其任何组合。

3.根据权利要求1所述的方法，其中阴离子聚合物包括聚磺苯乙烯、聚甲基丙烯酸、聚丙烯酸、聚(丙烯酸钠盐)、聚茴脑磺酸钠盐、聚(乙烯基磺酸钠盐)或其任何组合。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一盐包含离子，所述离子包括NH₄⁺、K⁺、Na⁺、Li⁺、Mg²⁺、Ca²⁺、Rb⁺、Cs⁺、N(CH₃)₄⁺或其任何组合。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述阳离子层和/或所述阴离子层包含中性电荷。

6.根据权利要求1所述的方法，还包括：

C)将所述阴离子层暴露于第二阳离子溶液以在所述阴离子层上生成第二阳离子层，其中所述第二阳离子溶液包含所述聚合物、所述胶粒、所述盐或其任何组合，并且其中所述涂层包括含所述阳离子层、所述阴离子层和所述第二阳离子层的三层。

7.根据权利要求6所述的方法，还包括：

D)将所述第二阳离子层暴露于第二阴离子溶液以在所述第二阳离子层上生成第二阴离子层，其中所述第二阴离子溶液包含所述阴离子聚合物、所述第二胶粒、所述第二盐或其任何组合，并且其中所述涂层包括含所述阳离子层、所述阴离子层、所述第二阳离子层和所述第二阴离子层的四层。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述第二阳离子层和/或所述第二阴离子层包含中性电荷。

9.根据权利要求1所述的方法，还包括在所述弹性衬底上沉积底漆层，其中所述底漆层置于所述弹性衬底和所述阳离子层之间。