[发明专利]一种深度学习模型的优化处理方法、装置和存储介质在审

专利信息
申请号: 201910133986.2 申请日: 2019-02-22
公开(公告)号: CN110633801A 公开(公告)日: 2019-12-31
发明(设计)人: 涂眉;张帆;丁仁秀;张培华;崔允祯;金想荷 申请(专利权)人: 北京三星通信技术研究有限公司;三星电子株式会社
主分类号: G06N20/00 分类号: G06N20/00;G06F17/28
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李敬文
地址: 100028 北京市朝*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 矩阵 优化处理装置 存储介质 优化处理 数据处理 客户端 学习 共享
【权利要求书】:

1.一种深度学习模型的优化处理方法,包括:

调整深度学习模型的矩阵中的至少两个矩阵的大小,使得所述至少两个矩阵大小相同;

使所述至少两个矩阵进行权值共享。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述至少两个矩阵包括如下矩阵中的至少两个矩阵:

所述深度学习模型编码端的词向量矩阵、所述深度学习模型解码端的词向量矩阵、所述深度学习模型输出全连接层的参数矩阵、所述深度学习模型转换输入输出后的编码端的词向量矩阵、所述深度学习模型转换输入输出后的解码端的词向量矩阵和所述深度学习模型转换输入输出后的输出全连接层的参数矩阵。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述至少两个矩阵包括第一矩阵和第二矩阵,所述调整深度学习模型的矩阵中的至少两个矩阵的大小,包括:

从所述第一矩阵中删除词向量;和/或

向所述第二矩阵中填补词向量。

4.根据权利要求3所述的方法,其中,

从所述第一矩阵中删除词向量包括:

按照词频,分别对与所述第一矩阵和所述第二矩阵相对应的词表进行排序,所述第一矩阵的大小大于所述第二矩阵的大小,其中,所述第一矩阵对应的词表中的词从第一训练集数据中得到,所述第二矩阵对应的词表中的词从第二训练集数据中得到,所述第一矩阵对应的词表中的词的词频通过对第一训练集数据进行统计得到,所述第二矩阵对应的词表中的词的词频通过对第二训练集数据进行统计得到;

按照所述词频,删除排序后与所述第一矩阵相对应的词表中的词,使得删除后的所述第一矩阵的大小与所述第二矩阵的大小相同;

向所述第二矩阵中填补词向量包括:

按照词频,分别对与所述第一矩阵和所述第二矩阵相对应的词表进行排序,所述第一矩阵的大小大于所述第二矩阵的大小,其中,所述第一矩阵对应的词表中的词从第一训练集数据中得到,所述第二矩阵对应的词表中的词从第二训练集数据中得到,所述第一矩阵对应的词表中的词的词频通过对第一训练集数据进行统计得到,所述第二矩阵对应的词表中的词的词频通过对第二训练集数据进行统计得到;

按照所述词频,将标识符填补到与所述第二矩阵相对应的词表中,使得填补后的所述第二矩阵的大小与所述第一矩阵的大小相同。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,使所述至少两个矩阵进行权值共享,包括:

按照设定的共享率,确定所述至少两个矩阵的共享特征维度;

使所述至少两个矩阵在所述共享特征维度处权值共享。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述共享率为大于0且小于或等于1的实数。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,使所述至少两个矩阵进行权值共享,包括:

按照设定的第一共享率1,使所述至少两个矩阵在全部特征维度处权值共享,以得到第一权值共享矩阵;

按照设定的第二共享率,使所述第一权值共享矩阵与至少一个其他矩阵,在由所述第二共享率所确定的共享特征维度处权值共享;

其中,所述至少一个其他矩阵包括所述深度学习模型中除得到所述第一权值共享矩阵的至少两个矩阵以外的其他矩阵和/或通过权值共享得到的其他权值共享矩阵。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,使所述至少两个矩阵进行权值共享,包括:

按照设定的第一共享率1,使所述深度学习模型编码端的词向量矩阵、所述深度学习模型解码端的词向量矩阵与所述深度学习模型输出全连接层的参数矩阵的转置中的至少两个矩阵相等,以得到第二权值共享矩阵;

按照设定的第一共享率1,使所述深度学习模型转换输入输出后的编码端的词向量矩阵、所述深度学习模型转换输入输出后的解码端的词向量矩阵与所述深度学习模型转换输入输出后的输出全连接层的参数矩阵的转置中的至少两个矩阵相等,以得到第三权值共享矩阵;

按照设定的第二共享率,使所述第二权值共享矩阵与所述第三权值共享矩阵在由所述第二共享率确定的共享特征维度处相等。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京三星通信技术研究有限公司;三星电子株式会社,未经北京三星通信技术研究有限公司;三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910133986.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top