[发明专利]用于分配系统的具有台阶式涡流室的分配头

权利要求书

1.分配头(1)，所述分配头用于对产品进行分配的分配系统，其特征在于，所述分配头(1)包括：

-喷射喷嘴(14)，所述喷射喷嘴包括分配孔(19)和开口到所述分配孔(19)的涡流室(20)，所述涡流室(20)包括会聚部分(37)，所述涡流室沿着轴线(X)在沿所述产品的移位方向的上游端部(21)和下游端部(22)之间延伸，和

-砧座(8)，所述砧座包括设有周壁(36)的芯部(9)，所述芯部(9)容纳在所述涡流室(20)内部，所述周壁(36)和所述会聚部分(37)形成至少一个流体路径，所述产品在所述至少一个流体路径中流通，

所述会聚部分(37)包括所述喷射喷嘴(14)的内壁(35)，所述内壁(35)和/或所述芯部的所述周壁(36)设有多个台阶(30)，每个台阶(30)由横向壁(31)和纵向壁(32)限定出，所述横向壁在正割于所述轴线(X)的平面中延伸，所述纵向壁大致平行于所述轴线，所述台阶(30)在所述流体路径中形成障碍物，所述喷射喷嘴(14)包括所述涡流室(20)的至少一个供应通道(25)，所述供应通道切向地开口到所述涡流室(20)，

其中，所述芯部(9)包括锥形部分(12)，所述锥形部分围绕所述轴线(X)回转并且限定出与所述分配孔(19)相对定位的顶部(13)。

2.根据权利要求1所述的分配头(1)，其中，所述会聚部分(37)包括位于所述横向壁(31)和所述纵向壁(32)之间的接合处的至少一个台阶突缘(33)，所述台阶突缘(33)位于与所述芯部(9)的所述周壁(36)相距70微米至250微米的近端距离处，所述近端距离沿着从所述台阶突缘(33)到所述周壁(36)沿最短路线描绘的假想直线测量出。

3.根据权利要求2所述的分配头(1)，其中，所述纵向壁(32)的沿着所述轴线(X)测量出的长度在30微米到250微米之间。

4.根据权利要求2或3所述的分配头(1)，其中，所述横向壁(31)的沿着与所述轴线(X)正交的轴线测量出的长度在30微米到350微米之间。

5.根据权利要求1或2所述的分配头(1)，其中，所述台阶(30)从所述上游端部(21)延伸到所述下游端部(22)。

6.根据权利要求1或2所述的分配头(1)，其中，所述会聚部分(37)包括三个到十五个台阶(30)。

7.根据权利要求6所述的分配头，其中，所述涡流室(20)包括在所述会聚部分(37)上游的前室，所述至少一个供应通道(25)开口到所述前室(50)。

8.根据权利要求7所述的分配头，其中，所述前室(50)是环形的。

9.根据权利要求7和8中任一项所述的分配头，其中，所述至少一个供应通道(25)的高度对应于所述前室(50)的高度。

10.根据权利要求1所述的分配头(1)，其中，所述顶部(13)是平的并且包括大致正交于所述轴线(X)的平面壁。

11.根据权利要求1或2所述的分配头(1)，其中，所述芯部(9)是实心的。

12.根据权利要求1或2所述的分配头(1)，其中，所述分配孔(19)仅流体连接到所述喷射喷嘴的所述会聚部分(37)。

13.根据权利要求6所述的分配头(1)，其中，所述会聚部分(37)包括四个台阶(30)。

14.一种用于对产品进行分配的分配系统，其特征在于，所述分配系统包括根据权利要求1至13中任一项所述的分配头(1)。