[发明专利]一种柔性抛光粒子磁性排布抛光盘的制作方法有效

专利信息
申请号: 201910137045.6 申请日: 2019-02-22
公开(公告)号: CN109759966B 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 陆静;肖平;徐西鹏 申请(专利权)人: 华侨大学
主分类号: B24D18/00 分类号: B24D18/00
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 张松亭;姜谧
地址: 362000 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 柔性 抛光 粒子 磁性 排布 制作方法
【说明书】:

发明公开了一种柔性抛光粒子磁性排布抛光盘的制作方法,该柔性抛光粒子磁性排布抛光盘包括一金属盘和抛光粒子,抛光粒子通过磁化后的金属盘在上述凹槽处产生的漏磁现象吸附连接于上述凹槽内。本发明通过磁力吸附抛光粒子,能很好的保持了抛光粒子的形态,不会破坏抛光粒子;当撤去外加磁场时,吸附力消失,能有效的实现抛光粒子的回收和二次利用,极大的降低了抛光成本。

技术领域

本发明属于研磨工具技术领域,具体涉及一种柔性抛光粒子磁性排布抛光盘的制作方法。

背景技术

随着科学技术的进步,对产品表面质量的要求越来越高,尤其是一些脆性材料上,如半导体、陶瓷底板和玻璃面板等领域。这类材料具有硬度高,化学稳定性好等的特点。若要使得材料合理而充分的应用,必须借助于成熟的材料加工方法。在一般的加工过程中,磨抛过程占有十分重要的地位。因为它直接决定了加工工件最终的表面精度和表面质量。

目前抛光主流的磨料的固结方式有,固结磨料抛光、游离磨料抛光。传统的固结磨料抛光难以保持磨料出刃高度的一致,容易对工件造成划伤和表面损伤。游离磨料抛光,磨料运动轨迹不可控,磨料容易团聚,磨料的利用率不高,抛光效率低。另一方面,固结磨料的抛光工具,在有效的磨料使用完之后,其基体也随之丢弃,造成资源的浪费。而在游离磨料抛光中,在多数情况下磨料没有回收再利用,造成大量浪费磨料的情况。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术缺陷,提供一种柔性抛光粒子磁性排布抛光盘的制作方法。

本发明的技术方案如下:

一种柔性抛光粒子磁性排布抛光盘的制作方法,该柔性抛光粒子磁性排布抛光盘包括

一金属盘,其上具有至少一径向和/或周向的凹槽;

抛光粒子,包括具有磁通性的金属芯、软质粘合剂层和硬质磨料,软质粘合剂层位于金属芯的外表面,硬质磨料均匀分散于软质粘合剂层中;

抛光粒子通过磁化后的金属盘在上述凹槽处产生的漏磁现象吸附连接于上述凹槽内,上述凹槽的宽度适配抛光粒子的外径,上述凹槽的深度小于抛光粒子的外径并大于抛光粒子的外径的一半;

该制作方法包括如下步骤:

(1)设置一机台,该机台具有一容器和一电磁铁模组,该电磁铁模组能够产生不同方向的磁场并能够调节该磁场的强弱,该电磁铁模组位于上述容器下方和四周;

(2)将上述金属盘安装在上述容器内的底部后,倒入抛光粒子,打开机台,选择磁场的方向和强弱,使金属盘磁化,进而在上述凹槽处产生漏磁线性;

(3)搅动抛光粒子,进而使抛光粒子均匀的吸附在上述凹槽处,即成。

在本发明的一个优选实施方案中,所述金属芯的材质包括铁、钴和镍。

在本发明的一个优选实施方案中,所述软质粘合剂层的材质包括海藻酸钠和硅胶。

在本发明的一个优选实施方案中,所述硬质磨料为金刚石、碳化硅、立方碳化硼和氧化铝中的至少一种。

在本发明的一个优选实施方案中,所述硬质磨料的粒径为W3-W40。

在本发明的一个优选实施方案中,所述抛光粒子的外径小于5mm。

进一步优选的,所述金属芯的直径为0.5-3mm。

在本发明的一个优选实施方案中,所述磁化的磁感线与所述凹槽垂直。

本发明的有益效果是:

1、本发明通过磁力吸附抛光粒子,能很好的保持了抛光粒子的形态,不会破坏抛光粒子;当撤去外加磁场时,吸附力消失,能有效的实现抛光粒子的回收和二次利用,极大的降低了抛光成本。

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