[发明专利]超材料单元、电磁聚焦放大透镜及其制备方法

权利要求书

1.一种用于电磁聚焦放大透镜的超材料单元(1)，其特征在于，包括介质基板(11)和谐振环结构，所述谐振环结构包括位于所述介质基板(11)第一侧的双开口衍生谐振环(12)和位于所述介质基板(11)第二侧的微带线(13)，其中，

所述双开口衍生谐振环(12)呈形，包括相互对称的第一部分(121)和第二部分(122)，所述第一部分(121)的开口处和所述第二部分(122)的开口处分别设置有左右对称的第一回折部(1231)和第二回折部(1232)，所述第一部分(121)和所述第二部分(122)的与所述开口相对的侧壁上分别设置有凹进部(124)，其中，

所述双开口衍生谐振环(12)的尺寸为9mm，所述第一部分(121)和所述第二部分(122)之间的间距为0.5mm，所述双开口衍生谐振环(12)的开口宽度为2mm，所述第一回折部(1231)的长度为2mm，所述第二回折部(1232)的长度为1.5mm，所述凹进部(124)的宽度为3mm，深度为1mm；

所述微带线(13)在所述双开口衍生谐振环(12)上的投影同时穿过所述第一部分(121)和所述第二部分(122)的开口处，且平行于所述介质基板(11)的一侧边，所述投影与所述凹进部(124)的凹侧壁相互垂直，且垂足位所述凹进部(124)的凹侧壁的中点处。

2.根据权利要求1所述的超材料单元(1)，其特征在于，所述超材料单元(1)的边长≤λ/4，其中，λ为期望电磁波的波长。

3.根据权利要求1所述的超材料单元(1)，其特征在于，所述双开口衍生谐振环(12)和所述微带线(13)均由铜线制成，所述铜线的宽度为0.5mm。

4.一种电磁聚焦放大透镜，其特征在于，包括在空间呈扇形分布的多个超材料阵列结构(2)，其中，

所述超材料阵列结构(2)包括多个根据权利要求1至3中任一项所述的超材料单元(1)，多个所述超材料单元(1)排列成方形阵列。

5.根据权利要求4所述的电磁聚焦放大透镜，其特征在于，相邻所述超材料阵列结构(2)之间的空间夹角相等。