[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201910140616.1 申请日: 2019-02-26
公开(公告)号: CN109801954B 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 田宏伟;牛亚男;李栋;王纯阳;刘明;刘政 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 杨广宇
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板具有显示区域和位于所述显示区域周围的非显示区域,所述阵列基板包括:

衬底基板,以及依次设置在所述衬底基板上的栅极图案、层间绝缘层、平坦图案和源漏极图案,位于所述显示区域内的所述源漏极图案包括源极、漏极和源漏极走线;

其中,所述平坦图案与位于所述显示区域内的源漏极图案同层设置,且所述平坦图案远离所述衬底基板的一侧与位于所述显示区域内的源漏极图案远离所述衬底基板的一侧平齐,所述平坦图案与位于所述显示区域内的源漏极图案形状互补,所述平坦图案具有容置所述位于所述显示区域内的源漏极图案的第一开槽;

所述衬底基板为柔性衬底基板,所述非显示区域包括弯折区,所述弯折区内具有第二开槽,所述第二开槽内设置有有机填充物,所述有机填充物远离所述柔性衬底基板的一侧与所述层间绝缘层远离所述柔性衬底基板的一侧平齐;

所述源漏极图案包括位于所述弯折区内的源漏极走线,所述源漏极走线位于所述有机填充物远离所述衬底基板的一侧;

所述平坦图案与所述有机填充物同层制备得到。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括平坦层,所述平坦层位于所述源漏极图案远离所述衬底基板的一侧。

3.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括有源层图案和钝化层,所述有源层图案位于所述衬底基板与所述栅极图案之间,所述钝化层位于所述有源层图案与所述栅极图案之间。

4.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括有源层图案,所述有源层图案位于所述层间绝缘层与所述源漏极图案之间。

5.一种显示面板,其特征在于,包括:如权利要求1至4任一所述的阵列基板。

6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板还包括平坦层,所述平坦层位于所述源漏极图案远离所述衬底基板的一侧;

所述显示面板还包括位于所述平坦层远离所述衬底基板的一侧层叠设置的第一电极、发光层、第二电极和滤光片,所述第一电极和所述第二电极分别为阴极和阳极中的一极。

7.根据权利要求5或6所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板具有两组平行的对边,所述显示区域内具有多个像素,所述多个像素的排布方向与所述显示面板的任一边不平行。

8.一种显示装置,其特征在于,包括:如权利要求5至7任一所述的显示面板。

9.一种阵列基板的制造方法,其特征在于,所述阵列基板具有显示区域和位于所述显示区域周围的非显示区域,所述方法包括:

提供衬底基板,所述衬底基板为柔性衬底基板,所述非显示区域包括弯折区;

在所述衬底基板上依次形成栅极图案和层间绝缘层;

在形成有所述层间绝缘层的衬底基板上整层涂覆有机材料,形成有机材料层,所述有机材料层的厚度大于或等于源漏极图案的厚度;

对位于所述显示区域内的有机材料层进行曝光显影处理,得到平坦图案,所述平坦图案具有第一开槽;

在形成有所述平坦图案的衬底基板上形成源漏极图案,位于所述显示区域内的所述源漏极图案包括源极、漏极和源漏极走线,所述平坦图案与位于所述显示区域内的源漏极图案同层设置,且所述平坦图案远离所述柔性衬底基板的一侧与位于所述显示区域内的源漏极图案远离所述柔性衬底基板的一侧平齐,所述平坦图案与位于所述显示区域内的源漏极图案形状互补,所述位于所述显示区域内的源漏极图案容置于所述第一开槽内;

对所述弯折区内的无机膜层进行蚀刻处理,形成第二开槽;

所述在形成有所述层间绝缘层的衬底基板上整层涂覆有机材料,形成有机材料层,包括:

在所述第二开槽内填充所述有机材料,以在所述第二开槽内形成有机填充物,所述有机填充物远离所述柔性衬底基板的一侧与所述层间绝缘层远离所述柔性衬底基板的一侧平齐,所述平坦图案与所述有机填充物同层制备得到。

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