[发明专利]一种宽波段超低反射率的增透膜

权利要求书

1.一种宽波段超低反射率的增透膜，其特征在于，包括基底以及设置在所述基底上的增透膜堆；

所述的基底为光学玻璃或光学塑料；

所述的增透膜堆包括堆叠的高折射率膜层、中间折射率膜层以及低折射率膜层；所述的增透膜堆的结构表达式为：，式中M表示1/4监控波长厚度的中间折射率膜层，L表示1/4监控波长厚度的低折射率膜层，H表示1/4监控波长厚度的高折射率膜层，表示第个交替单元，n表示交替单元的总个数，为整数且，表示n个交替单元依次堆叠，a、、、、表示系数；

根据所述结构表达式设计得到增透膜，设置初始结构周期数n为60，所述增透膜的高透射波长区域为380~800nm，该波长区域内增透膜的最大残余反射率在0.1%以下，平均残余反射率为0.0756%，所述增透膜的膜层总数为47层，总厚度为2979.51nm，其中增透膜堆自基底起依次层叠的膜层的厚度为：32.89nm的L1层、3.52nm的H1层、216.3nm的L1层、28.31nm的M层、20.93nm的L1层、42.07nm的M层、10.25nm的H1层、83.48nm的M层、36.27nm的L1层、9.43nm的H2层、285.74nm的L1层、13.83nm的M层、56.51nm的L1层、121.83nm的M层、3.67nm的H1层、37.79nm的M层、57.43nm的L1层、5.05nm的H2层、108.46nm的L1层、151.68nm的M层、128.45nm的L1层、10.7nm的M层、40.77nm的L1层、44.37nm的M层、2.56nm的H1层、193.35nm的M层、40.44nm的H2层、27.31nm的L1层、29.56nm的H2层、172.76nm的L1层、50.07nm的M层、127.41nm的H2层、9.79nm的L1层、119.94nm的H2层、66.22nm的M层、69.26nm的L1层、72.96nm的M层、84.99nm的H1层、16.35nm的L1层、21.15nm的H1层、58.44nm的L1层、6.25nm的H1层、73nm的M层、63.09nm的H1层、10.39nm的L2层、28.71nm的H1层、95.81nm的L1层，所述L1层表示材料为MgF₂的1/4监控波长厚度的低折射率膜层，所述L2层表示材料为SiO₂的1/4监控波长厚度的低折射率膜层，所述H1层表示材料为二氧化钛的1/4监控波长厚度的高折射率膜层，所述H2层表示材料为钛酸镧的1/4监控波长厚度的高折射率膜层；

或者，根据所述结构表达式设计得到增透膜，设置初始结构周期数n为40，所述增透膜的高透射波长区域为410~840nm，该波长区域内增透膜的最大残余反射率在0.1%以下，平均残余反射率为0.0889 %，所述增透膜的膜层总数为24层，总厚度为1155.55nm，其中增透膜堆自基底起依次层叠的膜层的厚度为：25.36nm的M层、3.97nm的H1层、47.36nm的M层、14.57nm的L1层、45.31nm的M层、81.83nm的L1层、4.09nm的H1层、87.88nm的L1层、109.21nm的M层、28.34nm的H2层、188.68nm的M层、27.09nm的H1层、13.67nm的L1层、73.56nm的H1层、27.04nm的L1层、24.83nm的H1层、36.47nm的L1层、48.62nm的M层、12.87nm的H1层、37.96nm的M层、69.49nm的H1层、15.82nm的L2层、25.95nm的H1层、105.77nm的L1层，所述L1层表示材料为MgF₂的1/4监控波长厚度的低折射率膜层，所述L2层表示材料为SiO₂的1/4监控波长厚度的低折射率膜层，所述H1层表示材料为二氧化钛的1/4监控波长厚度的高折射率膜层，所述H2层表示材料为钛酸镧的1/4监控波长厚度的高折射率膜层。

2.根据权利要求1所述的一种宽波段超低反射率的增透膜，其特征在于，所述高折射率膜层的材料包括钛酸镧、二氧化钛、氧化锆、氧化钽和氧化铌中的一种或多种；所述中间折射率膜层的材料包括Al₂O₃和氟化铈中的一种或多种；所述低折射率膜层的材料包括MgF₂、SiO₂和氟化铝中的一种或多种。