[发明专利]一种工艺参数推荐方法、装置及电子设备有效
申请号: | 201910146283.3 | 申请日: | 2019-02-27 |
公开(公告)号: | CN111625918B | 公开(公告)日: | 2023-05-09 |
发明(设计)人: | 毛嘉昀;徐宇;吴云崇 | 申请(专利权)人: | 阿里巴巴集团控股有限公司 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20;G06F111/04 |
代理公司: | 北京清源汇知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11644 | 代理人: | 冯德魁;窦晓慧 |
地址: | 英属开曼群岛大开*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工艺 参数 推荐 方法 装置 电子设备 | ||
1.一种工艺参数推荐方法,其特征在于,包括:
获得工艺目标信息、工艺约束条件和工艺参数变量;
在所述工艺约束条件下,调整所述工艺参数变量的值,判断获得的工艺效果信息与所述工艺目标信息是否匹配;
如果是,则将调整后的所述工艺参数变量的值作为推荐的工艺参数;
还包括:获得原始工艺目标信息和第一预测模型,所述原始工艺目标信息包括关于至少一个点位的表达式,所述第一预测模型用于根据工艺生产数据预测所述原始工艺目标信息的所述表达式中不能够获取点位值的点位的点位值;获得当前的工艺生产数据;根据所述当前的工艺生产数据和所述第一预测模型,预测所述原始工艺目标信息的所述表达式中不能够获取点位值的点位的点位值;根据所述原始工艺目标信息和所述原始工艺目标信息的所述表达式中不能够获取点位值的点位的点位值,获得所述工艺目标信息;其中,所述工艺目标信息中包含一个或者一个以上的工艺目标子信息构成的目标信息合集,不同的工艺目标子信息被称为点位;或者
还包括:获得原始工艺约束条件和第二预测模型,所述原始工艺约束条件包括关于至少一个点位的表达式,所述第二预测模型用于根据工艺生产数据预测所述原始工艺约束条件的所述表达式中不能够获取点位值的点位的点位值;获得当前的工艺生产数据;根据所述当前的工艺生产数据和所述第二预测模型,预测所述原始工艺约束条件的所述表达式中不能够获取点位值的点位的点位值;根据所述原始工艺约束条件和所述原始工艺约束条件的所述表达式中不能够获取点位值的点位的点位值,获得所述工艺约束条件。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,如果获得的所述工艺效果信息与所述工艺目标信息不匹配,则继续调整所述工艺参数变量的值,直至获得的工艺效果信息与工艺目标信息匹配,将获得的工艺效果信息与工艺目标信息匹配时的工艺参数变量的值作为推荐的工艺参数。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述工艺参数推荐方法应用于电子设备或者包括多个电子设备的工艺参数推荐系统。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述获得工艺目标信息、工艺约束条件和工艺参数变量,包括:
提供用于输入信息的交互界面,获得通过所述交互界面输入的所述工艺目标信息、所述工艺约束条件和所述工艺参数变量;
或者,获得终端设备提供的所述工艺目标信息、所述工艺约束条件和所述工艺参数变量。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述判断获得的工艺效果信息与所述工艺目标信息是否匹配,包括:
判断获得的工艺效果信息中的效果值与所述工艺目标信息中的目标值是否相同;
或者,判断获得的工艺效果信息中的效果值与所述工艺目标信息中的目标值之间的相似度是否达到或超过预定的相似度阈值。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:输出推荐的工艺参数。
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