[发明专利]一种精准放射治疗头部定位架在审

专利信息
申请号: 201910148643.3 申请日: 2019-02-28
公开(公告)号: CN109675209A 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 姜春富 申请(专利权)人: 姜春富
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 代理人: 王程远
地址: 150010 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 定位框架 放射治疗 标尺刻度 侧固定架 定位结构 头部定位架 前侧边 右侧板 定位作用 治疗计划 坐标计算 安装板 后置板 金属丝 两侧板 内侧边 上侧边 完成时 两组 内置 底座 制定
【说明书】:

发明的一种精准放射治疗头部定位架,包括定位框架、上侧固定架和安装板底座,定位框架的两侧板均设置有Z形定位结构,两组Z形定位结构的内侧边均设置有金属丝,定位框架的后侧设置有圆弧后置板,定位框架的顶端固定安装上侧固定架,上侧固定架的前侧边设置有X轴标尺刻度,定位框架右侧板上侧边设置有Y轴标尺刻度,定位框架右侧板前侧边设置有Z轴标尺刻度,本发明实现对放射治疗头部的定位作用,并且通过Z形定位结构的内置Z坐标设置,实现定位便捷和摆位更加准确的有益效果,并且能够在治疗计划制定完成时对坐标计算方便。

技术领域

本发明涉及医疗设备头部定位架技术领域,具体为一种精准放射治疗头部定位架。

背景技术

随着现代肿瘤放射治疗技术的发展,追求精准、精确放疗,精确放疗可以起到对患者的正常组织损伤和毒副作用降到最低。首先要从各个环节减少误差,如定位误差、摆位误差、图像传输与治疗计划划制定误差、机器设备各项指标误差等,造成误差最大的就是定位与摆位误差。

目前头部肿瘤放射治疗定位繁琐。在创造性上减少定位步骤也就减小了误差。现有头部放射治疗定位摆位,首先在头部面膜表面做虚拟X、Y、Z标记点,再进行定位扫描,图像传输到治疗计划完成治疗计划设计,通过虚拟标记点坐标计算出实际肿瘤中心靶区坐标,通过模拟定位机或模拟CT下根据模拟坐标与治疗计划肿瘤中心坐标进行复位,确定肿瘤照射中心靶区实际坐标x.y.z在面膜上进行标记,步骤复杂、误差大。综上总结,现有的放射治疗头部定位功能出现的误差现象,第一、需要在患者固定膜或皮肤上二次复位标记坐标,导致定位功能的重复性与治疗的不准确性误差更大;第二、空间定位坐标摆位误差较大,基于此,本发明设计了一种精准放射治疗头部定位架,以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种精准放射治疗头部定位架,以解决上述背景技术中提出,第一、需要在患者固定膜或皮肤上二次复位标记坐标,导致定位功能的重复性与治疗的不准确性误差更大;第二、空间定位坐标摆位误差较大的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种精准放射治疗头部定位架,包括定位框架、上侧固定架和安装板底座,前述定位框架的两侧板均设置有Z形定位结构,两组前述Z形定位结构的内侧边均设置有金属丝,前述定位框架的后侧设置有圆弧后置板,前述定位框架的顶端固定安装上侧固定架,前述上侧固定架的前侧边设置有X轴标尺刻度,前述定位框架右侧板上侧边设置有Y轴标尺刻度,前述定位框架右侧板前侧边设置有Z轴标尺刻度,前述定位框架固定安装在安装板底座的上侧,前述安装板底座的上侧固定安装固定膜底板,前述固定膜底板的上侧固定连接头部面膜。

前述X轴标尺刻度与X轴相对应,且X轴坐标0-280mm,前述Y轴标尺刻度与Y轴、Z轴标尺刻度与Z轴均相对应,且Y轴与Z轴均设置为0-200mm。

前述Z形定位结构设置为定位框架的侧边内置Z坐标,且内置Z坐标与Y轴、Z轴均与Y轴标尺刻度、Z轴标尺刻度相对应。

前述精准放射治疗头部定位架的材料均采用碳素纤维材料制作。

本发明的有益之处在于:本发明通过定位框架、Z形定位结构、圆弧后置板、上侧固定架、X轴标尺刻度、Y轴标尺刻度和Z轴标尺刻度之间的连接配合,实现对放射治疗头部的定位作用,并且通过Z形定位结构的内置Z坐标设置,实现定位便捷和摆位更加准确的有益效果,并且能够在治疗计划制定完成时对坐标计算方便,通过安装板底座、固定膜底板和头部面膜之间的连接配合,实现与患者头部的限位贴合作用,有利于达到不在头部面膜上进行人工标记,减少二次在模拟定位机上或模拟CT上复位两次标记坐标点,解决用人工标记坐标不清或丢失,延误治疗,并且能够实现在多种定位架上的安装使用,使得患者头部放射治疗准确性和重复性得到较高的保证。

附图说明

图1为本发明的实施例中的一种精准放射治疗头部定位架的第一结构示意图;

图2为本发明的实施例中的一种精准放射治疗头部定位架的第二结构示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于姜春富,未经姜春富许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910148643.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top