[发明专利]一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片及其制备方法在审
申请号: | 201910149123.4 | 申请日: | 2019-02-28 |
公开(公告)号: | CN109655943A | 公开(公告)日: | 2019-04-19 |
发明(设计)人: | 许天灏;汤建良;张形 | 申请(专利权)人: | 上海万明眼镜有限公司 |
主分类号: | G02B1/14 | 分类号: | G02B1/14;G02B5/20;G02C7/10 |
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地址: | 201112 上海市徐*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 复合薄膜层 低折射率层 高折射率层 基底 防红外线 防紫外线 折射率层 保护层 镜片 蓝光 膜厚 制备 真空镀膜技术 离子源设备 成膜条件 二氧化硅 基片清洁 交替堆叠 上保护层 外侧设置 专用工具 真空室 堆叠 放入 烘干 送入 | ||
1.一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片,其特征在于:包括基底(1)、复合薄膜层(2)和保护层(3),所述基底(1)上设置有复合薄膜层(2),复合薄膜层(2)包括高折射率层(21)和低折射率层(22),6层高折射率层(21)和低折射率层(22)相互交替堆叠形成复合薄膜层(2);所述复合薄膜层(2)外侧设置有保护层(3)。
2.根据权利要求1所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片,其特征在于:所述高折射率层(21)采用五氧化三钛制成,低折射率层(22)采用二氧化硅制成,复合薄膜层(2)厚度共为460±10nm。
3.根据权利要求1所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片,其特征在于:所述基底(1)为加硬完毕的折射率为1.56的亚克力基片、折射率为1.60M8的基片和折射率为1.67的M7基片的任意一种。
4.根据权利要求1所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片,其特征在于:所述复合薄膜层成膜时使用离子源设备辅助成膜。
5.根据权利要求1所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片,其特征在于:所述保护层(3)为防水膜,厚度为15nm。
6.一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片的制备方法,其特征在于:包括以下操作步骤:
S1:将加硬烘干完毕的基底(1)清洁后,放入专用工具,送入真空室;
S2:利用真空镀膜技术,在使用离子源设备辅助成膜条件下,在S1)中得到的基底(1)上依次堆叠镀上低折射率层(22)和高折射率层(21);其中低折射率层(22)为二氧化硅,膜厚依次为6.5nm、104.5nm、93.5nm;高折射率层(21)为五氧化三钛,膜厚依次为25.5nm、163.5nm、68.5nm;
S3:在S2)中所得的复合薄膜层(2)最后一层高折射率()层上,镀上保护层(3)。
7.根据权利要求6所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片的制备方法,其特征在于:所述S1)中加硬烘干完毕为加硬完成后在110℃烘烤2h直至基底(1)干透。
8.根据权利要求6所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片的制备方法,其特征在于:S1)中所用真空室的真空度为1.00E-2。
9.根据权利要求6所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片的制备方法,其特征在于:所述S2)中离子源设备辅助成膜过程中,工作气体为氩气或氧气,离子源设备使用电压为100-80V,电流为4-2A。
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