[发明专利]光学防伪元件及防伪产品有效
申请号: | 201910152315.0 | 申请日: | 2019-02-28 |
公开(公告)号: | CN111619262B | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 曲欣;张宝利;朱军 | 申请(专利权)人: | 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 |
主分类号: | B42D25/324 | 分类号: | B42D25/324 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 肖冰滨;王晓晓 |
地址: | 100070 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 防伪 元件 产品 | ||
1.一种光学防伪元件,该光学防伪元件包括:
基材,该基材包括相互对立的第一表面和第二表面;
至少部分覆盖所述第一表面的第一微浮雕结构,所述第一微浮雕结构包括第一微透镜阵列和第一微图文阵列;以及
至少部分覆盖所述第二表面的第二微浮雕结构,所述第二微浮雕结构包括第二微透镜阵列和第二微图文阵列,
其中所述第一微透镜阵列能够对所述第二微图文阵列进行采样合成,从而形成第一再现图像,所述第二微透镜阵列能够对所述第一微图文阵列进行采样合成,从而形成第二再现图像,
其中,所述第一微图文阵列全部或部分重叠在所述第一微透镜阵列的表面上;和/或
所述第二微图文阵列全部或部分重叠在所述第二微透镜阵列的表面上。
2.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其中,所述第一微透镜阵列和/或所述第二微透镜阵列为由多个微透镜单元构成的以下一者或多者:非周期性阵列、随机性阵列、周期性阵列、或局部周期性阵列。
3.根据权利要求2所述的光学防伪元件,其中,所述微透镜单元为折射型微透镜和/或衍射型微透镜,
其中,所述第一微透镜阵列和所述第二微透镜阵列采用相同或不同类型的微透镜单元。
4.根据权利要求2所述的光学防伪元件,其中,所述微透镜单元的焦距为5微米至200微米。
5.根据权利要求4所述的光学防伪元件,其中,所述微透镜单元的焦距为10微米至100微米。
6.根据权利要求1所述光学防伪元件,其中,所述第一微图文阵列和/或所述第二微图文阵列采用的表面微结构由以下一者或多者构成:衍射微浮雕结构、非衍射的微浮雕结构、散射结构。
7.根据权利要求6所述的光学防伪元件,其中,所述表面微结构为一个或多个连续曲面结构、一个或多个矩形结构、一个或多个锯齿形棱镜或它们的拼接或组合。
8.根据权利要求1所述光学防伪元件,其中,所述第一微图文阵列和/或所述第二微图文阵列为由多个微图文单元构成的以下一者或多者:非周期性阵列、随机性阵列、周期性阵列、或局部周期性阵列。
9.根据权利要求8所述光学防伪元件,其中,所述微图文单元由以下一者或多者构成:凸起型微图文单元、凹陷型微图文单元、起伏浮雕单元、或周期性起伏光栅微图文单元,
其中,所述第一微图文阵列和所述第二微图文阵列采用相同或不同类型的微图文单元。
10.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其中,周期性或局部周期性的所述第一微透镜阵列、所述第二微透镜阵列、所述第一微图文阵列、所述第二微图文阵列的周期为5微米至200微米。
11.根据权利要求10所述的光学防伪元件,其中,周期性或局部周期性的所述第一微透镜阵列、所述第二微透镜阵列、所述第一微图文阵列、所述第二微图文阵列的周期为20微米至100微米。
12.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其中,
所述第一微浮雕结构和所述第二微浮雕结构的加工深度小于30微米;和/或
所述第一微透镜阵列和所述第二微透镜阵列的高度不大于20微米;和/或
所述第一微图文阵列和所述第二微图文阵列的加工深度为0.2微米至10微米。
13.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其中,还包括:涂布在所述第一微浮雕结构和/或所述第二微浮雕结构的表面的保护层或粘结层。
14.根据权利要求13所述的光学防伪元件,其中,所述保护层或粘结层至少是半透明的。
15.根据权利要求13所述的光学防伪元件,其中,所述保护层或粘结层能够用于增加颜色效果。
16.一种使用根据权利要求1至15中任一项权利要求所述的光学防伪元件的防伪产品。
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