[发明专利]具有吸气结构的真空绝缘玻璃(VIG)窗单元以及制备其的方法在审

专利信息
申请号: 201910152644.5 申请日: 2013-07-18
公开(公告)号: CN110094146A 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 鲁道夫·H·帕奇马克;约翰·P·霍根 申请(专利权)人: 葛迪恩实业公司
主分类号: E06B3/66 分类号: E06B3/66;E06B3/677
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 刘培培;黄爱娇
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 真空绝缘玻璃 吸气结构 窗单元 制备 吸气剂材料 闪光 激活 配置 优化 制约
【权利要求书】:

1.一种真空绝缘玻璃VIG窗单元,包括:

分别含有玻璃的平行的第一和第二基片;

多个隔离片和密封,配置在所述第一和第二基片的之间;

至少由所述密封定义的空间,位于所述第一和第二基片之间,并在低于大气压的压力下;

定义在所述第一基片中的吸气剂凹槽,用来接收最初放置的吸气剂;和

所述第二基片上的吸气结构,位于所述第一基片中的所述吸气剂凹槽的对面,所述第二基片上的所述吸气结构被设计用来增加吸气剂激活之后的所述第二基片上提供的吸气剂材料表面积,其中,所述第二基片上的所述吸气结构包括以下中的一个或多个:(i)具有基座的凹槽和定义在所述第二基片中的至少一个侧壁;(ii)所述第二基片被粗糙化所在的粗糙表面积,其中所述粗糙表面积比面向所述空间的所述第二基片的主要内表面更粗糙;和/或(iii)粗糙和/或多孔涂层。

2.如权利要求1所述的VIG窗单元,其中,所述第二基片上的所述吸气结构包括:定义在所述第二基片中的凹槽,所述凹槽具有基座以及在所述基座和所述第二基片的主要内表面之间延伸的至少一个侧壁。

3.如权利要求2所述的VIG窗单元,其中,定义在所述第二基片中的所述凹槽包括粗糙的表面,其比所述第二基片的主要内表面更粗糙。

4.如权利要求2-3中任何一项所述的VIG窗单元,其中,定义在所述第二基片中的所述凹槽的所述侧壁至少部分地与垂直向成角度。

5.如权利要求2-4中任何一项所述的VIG窗单元,其中,泵出管直接位于定义在所述第二基片中的所述凹槽之上和/或之中。

6.如上述权利要求中任何一项所述的VIG窗单元,其中,所述第二基片上的所述吸气结构包括:所述第二基片上的粗糙和/或多孔涂层,位于定义在所述第一基片中的所述吸气剂凹槽的对面。

7.如权利要求1所述的VIG窗单元,其中,所述第二基片上的所述吸气结构包括:定义在所述第二基片中的凹槽中的粗糙和/或多孔涂层,位于定义在所述第一基片中的所述吸气剂凹槽的对面。

8.如上述权利要求中任何一项所述的VIG窗单元,其中,所述吸气剂材料包含钡。

9.如上述权利要求中任何一项所述的VIG窗单元,其中,所述VIG窗单元的可见光透射率至少为50%。

10.如上述权利要求中任何一项所述的VIG窗单元,其中,所述吸气剂包含蒸发性吸气剂材料。

11.一种真空绝缘玻璃VIG窗单元,包括:

含有玻璃的平行的第一和第二基片;

多个隔离片和密封,配置在所述第一和第二基片的之间;

至少由所述密封定义的空间,位于所述第一和第二基片之间,并在低于大气压的压力下;

来自蒸发性吸气剂的吸气剂材料,位于吸气剂凹槽中和/或附近,所述吸气剂凹槽被定义在所述第一基片中,且

其中,所述吸气剂凹槽包括至少一个粗糙表面,用来增加吸气剂材料表面积。

12.如权利要求11所述的VIG窗单元,其中,所述吸气剂凹槽包括底表面和至少部分地与垂直向成角度的至少一个侧壁。

13.如权利要求11-12中任何一项所述的VIG窗单元,其中,所述吸气剂凹槽的侧壁比所述第一基片的主要内表面更粗糙,其中所述第一基片中定义有所述吸气剂凹槽。

14.如权利要求11-13中任何一项所述的VIG窗单元,其中,所述吸气剂凹槽的所述粗糙表面被蚀刻。

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