[发明专利]彩色膜、太阳能芯片及彩色膜的制备方法

说明书

本发明太阳能技术领域，具体涉及彩色膜、太阳能芯片及彩色膜的制备方法。其中彩色膜包括第一基底层，包括至少一层胶膜层；至少一层彩色镀膜层，形成在所述胶膜层上；其中，所述彩色镀膜层为在所述胶膜层的粗糙度小于1μm时形成的。本发明实施例提供的彩色膜，常态下的胶膜层的粗糙度较大(例如，粗糙度为1.2到1.8μm)，而在胶膜层的粗糙度小于1μm时形成镀膜层，由于胶膜层的粗糙度较小，减小了漫反射，提高了镜面反射，所以人眼看到的反射回来的光线变多了，即能够提高彩色膜的整体颜色亮度，从而提高了采用该彩色膜的太阳能电池的整体颜色亮度。

技术领域

本发明涉及太阳能技术领域，具体涉及彩色膜、太阳能芯片及彩色膜的制备方法。

背景技术

随着煤、石油、天然气等能源日益枯竭和环境污染日益加剧，人们迫切需要寻找清洁可再生新能源。作为地球无限可再生的无污染能源，即太阳能的应用日益引起人们的关注，将太阳能转化为电能的太阳能电池的研制得到了迅速发展。例如，基于溅射法的CIGS薄膜太阳能芯片(即，铜铟镓硒薄膜太阳能芯片)因为其轻、柔、薄、弱光发电性等特点，在移动能源产品中的应用越来越广泛，比如消费电子产品、建材产品等。

为了满足消费者日益增长的外观、颜色方面的需求，对太阳能电池设计出多种颜色，比如金色、砖红色等。实现彩色太阳能电池的方法包括将彩色膜设置于太阳能芯片上等，目前，此方法中利用的彩色膜为直接在Surlyn-PET-Surlyn表面镀彩色膜，但是，该彩色膜的LAB值中的明度分量L过低，所形成的彩色膜的亮度偏低，从而导致所形成的彩色太阳能电池的整体颜色黯淡，而且加热时存在裂纹。

发明内容

鉴于此，本发明实施例提供了一种彩色膜、太阳能芯片及彩色膜的制备方法，以解决彩色太阳能电池的整体颜色黯淡的问题。

根据第一方面，本发明实施例提供了一种彩色膜，包括：

第一基底层，包括至少一层胶膜层；

至少一层彩色镀膜层，形成在所述胶膜层上；其中，所述彩色镀膜层为在所述胶膜层的粗糙度小于1μm时形成的。

本发明实施例提供的彩色膜，其中，常态下的胶膜层的粗糙度较大(例如，粗糙度为1.2到1.8μm)，而在胶膜层的粗糙度小于1μm时形成彩色镀膜层，由于胶膜层的粗糙度较小，减小了漫反射，提高了镜面反射，所以人眼看到的反射回来的光线变多了，即能够提高彩色膜的整体颜色亮度，从而提高了采用该彩色膜的彩色太阳能电池的整体颜色亮度。

结合第一方面，在第一方面第一实施方式中，所述第一基底层的厚度为80微米到220微米。

本发明实施例提供的彩色膜，该厚度范围的第一基底层不仅能够应用于铜铟镓硒柔性太阳能芯片，还可以应用于晶硅太阳能芯片，具有较广的应用范围。

结合第一方面，在第一方面第二实施方式中，所述第一基底层的厚度为99微米到106微米。

本发明实施例提供的彩色膜，该厚度的第一基底层在实现对太阳能芯片表面进行保护的前提下，还能够保证较薄的厚度，使得采用该彩色膜的太阳能芯片具有轻、薄、柔的特点。

结合第一方面、第一方面第一实施方式或第一方面第二实施方式，在第一方面第三实施方式中，所述第一基底层包括两层所述胶膜层以及夹设在所述胶膜层之间的保护层。

本发明实施例提供的彩色膜，在该彩色膜设置于太阳能芯片中时，第一基底层中的保护层用于保护太阳能芯片中的电路层，减少在制备太阳能芯片的层压工艺中压力对电路层的影响，提高了太阳能芯片的成品率。

根据第二方面，本发明实施例还提供了一种彩色膜的制备方法，包括：

提供第一基底层，所述第一基底层包括至少一层胶膜层；