[发明专利]阵列基板及其制作方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201910153619.9 申请日: 2019-02-28
公开(公告)号: CN109904201B 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 李源;李俊峰;金炳文 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 马永芬
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示装置
【说明书】:

发明公开了一种阵列基板及其制作方法和显示装置,其中阵列基板包括:驱动电源线、辅助金属层和第一电容;薄膜晶体管层包括依次层叠设置的有源层、栅极和与有源层连接的源/漏极,第一电容的第一极板与栅极位于同一层,电容的第二极板与源/漏极位于同一层。将第一电容的第一极板与栅极设置在同一层,并且采用源/漏极所在层的金属作为第一电容的第二极板,无需单独制作的作为电容另一个极板的金属层,可以省去一层金属层,即可以省去一层掩膜。在增加辅助金属层减小电源Vdd的进线的阻抗的情况下,无需增加更多的掩膜。可以减小电源Vdd的进线压降的同时,减少掩膜的数量,从而减少生产成本,降低制作工艺的复杂程度。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种阵列基板及其制作方法和显示装置。

背景技术

有机发光二极管(OLED,Organic Light-Emitting Diode)是一种有机薄膜电致发光器件,其因具有制备工艺简单、成本低、功耗小、亮度高、视角宽、对比度高及可实现柔性显示等优点,而受到人们极大的关注。

其中,有源矩阵有机发光二极管(Active-matrix Organic Light EmittingDiode,AMOLED)是主动发光器件,AMOLED驱动电压信号(VDD)线中,电流流经VDD线时,由于VDD线的自身电阻分压产生电源压降(IR-drop),会影响AMOLED显示屏亮度均匀性。

发明内容

有鉴于此,本发明实施例提供了一种阵列基板及其制作方法和显示装置,以解决现有技术中由于VDD线的自身电阻分压产生电源压降,会影响AMOLED显示屏亮度均匀性的问题。

为此,本发明实施例提供了如下技术方案:

本发明第一方面,本发明实施例提供了一种阵列基板,包括:层叠设置的基板、薄膜晶体管层,还包括:驱动电源线、与所述驱动电源线连接的辅助导电层和与所述薄膜晶体管层同层且间隔设置的第一电容;其中,所述薄膜晶体管层包括依次层叠设置的有源层、栅极和与所述有源层连接的源/漏极或依次层叠设置的栅极、有源层和与所述有源层连接的源/漏极,所述第一电容的第一极板与所述栅极位于同一层,所述电容的第二极板与所述源/漏极位于同一层。

可选地,所述驱动电源线与所述源/漏电极位于同一层。

可选地,阵列基板还包括第二电容;所述辅助导电层形成所述第二电容的第一极板,所述第二电容的第二极板为所述源漏极。

可选地,所述辅助导电层设置在所述源/漏极所在层背离所述基板的一侧;或,所述辅助导电层与所述栅极同层设置;或,所述辅助导电层设置在所述栅极所在层与所述基板之间;或,所述栅极设置在所述有源层所在层和所述基板之间,所述辅助导电层设置在所述栅极所在层和所述源/漏极所在层之间。

可选地,阵列基板还包括第三电容;所述辅助导电层形成所述第二电容的第一极板,所述第二电容的第二极板与所述栅极位于同一层;优选的,所述辅助导电层设置在所述源/漏极所在层背离所述基板的一侧;或,所述辅助导电层设置在所述栅极所在层与所述基板之间;或,所述栅极设置在所述有源层所在层和所述基板之间,所述辅助导电层设置在所述栅极所在层和所述源/漏极所在层之间。

可选地,阵列基板还包括:绝缘层,设置在所述辅助导电层与所述驱动电源线之间;通孔,贯穿所述绝缘层,所述辅助导电层和所述驱动电源线通过所述通孔连接。

根据第二方面,本发明实施例提供了一种阵列基板制作方法,包括:在基板上形成有源层和第一导电层,并将所述第一导电层至少图形化为所述有源层对应的第一区域和与所述第一区域间隔设置的第二区域,其中,第一区域作为栅极;形成第二导电层,图形化所述第二导电层得到源/漏极,所述源/漏极在所述基板上的正投影与所述第二区域在所述基板上的正投影至少部分重叠,所述源/漏极层与所述第二区域构成第一电容;形成驱动电源线并形成与所述驱动电源线连接且位于不同层的辅助导电层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山国显光电有限公司,未经昆山国显光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910153619.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top