[发明专利]3D打印可控释一氧化氮纳米支架材料及制备方法与应用

权利要求书

1. 一种可控释NO纳米支架材料，其特征在于，具有三维网状结构，由BSA-Au NSs@CS-PLLD /NONOate@PCL/PLA材料作为支架；其中按质量计，PCL：PLA：CS-PLLD/NONOate=1：0.5-1.5：0.1-1；所述BSA-Au NSs中Au和CS-PLLD/NONOate的质量比为2×10^-5-6×10^-5；

其中，CS-PLLD的制备方法包括如下步骤：

将含有叠氮基团修饰的壳聚糖（CS-N₃）和含炔基的树枝状聚赖氨酸（PLLD）的水溶液通入N₂保护20-30分钟后，加入硫酸铜和抗坏血酸钠，升温至40-50℃反应24-48小时；反应结束后，将产物置于透析袋中透析2-3天，冷冻干燥，得到所述NO存储载体，即3代树枝状赖氨酸修饰的壳聚糖(CS-PLLD)；

其中所述CS-N₃、PLLD、硫酸铜和抗坏血酸钠的摩尔比为1：1-12：1-6 ：2.5-18。

2.根据权利要求1所述的可控释NO纳米支架材料，其特征在于，所述CS-PLLD为NO存储载体，具有如下所示的分子式：

；

其中m：n=5：1。

3. 根据权利要求2所述的可控释NO纳米支架材料，其特征在于，所述NO存储载体中壳聚糖基团的分子量为1000-20000，脱乙酰度为40-85％，且其NO负载量为1.0-5.0 μmoL/mg。

4.根据权利要求1所述的可控释NO纳米支架材料，其特征在于，所述水溶液中PLLD浓度为0.05-0.15g/L；所述透析袋的截留分子量为2000-20000。

5. 根据权利要求1所述的一种可控释NO纳米支架材料，其特征在于，所述PCL相对分子质量为3000-80000；所述PLA相对分子质量为10000-80000；所述Au NSs尺寸为30nm-60nm。

6.根据权利要求1所述的一种可控释NO纳米支架材料，其特征在于，所述可控释NO纳米支架材料的支架孔径大小为200-400μm，支架层间距为150-200μm。

7.权利要求1-6任一项所述的可控释NO纳米支架材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）将所述NO存储载体负载NO得到CS-PLLD/NONOate；

（2）将含有所述CS-PLLD/NONOate和BSA-Au NSs的聚乙烯醇（PVA）水溶液以0.5-5mL/min的速度加入PCL/PLA三氯甲烷溶液中，超声反应后得到BSA-Au NSs@CS-PLLD/NONOate@PCL/PLA纳米乳液；

（3）以所述纳米乳液为原料进行3D打印即得到所述可控释NO纳米支架材料；

其中所述PCL、PLA、CS-PLLD/NONOate和PVA质量比为1：0.5-1.5：0.1-1：0.01-0.1；所述三氯甲烷和PCL的用量比为1L：25-100 g；所述PVA水溶液中水和PVA的用量比为10 L：0.1 -1g；所述BSA-Au NSs溶液中Au的浓度为0.02-0.06 mg/mL。

8.根据权利要求7所述的一种可控释NO纳米支架材料的制备方法，其特征在于，所述PCL相对分子质量为3000-80000；所述PLA相对分子质量为10000-80000；所述PVA相对分子质量为15000-100000，醇解度86%-98%；所述PVA溶液温度为0-5℃，所述超声反应具体为在50-250W功率下超声反应30s-10min；

所述3D打印使用内径为0.1-1mm的打印喷头，打印压强为0.2-1kPa，打印温度为5-30℃。

9.权利要求1-6任一项所述可控释NO纳米支架材料在制备抗菌和促伤口愈合材料的应用。