[发明专利]一种任意图样的光纤光栅制备装置及其方法有效

专利信息
申请号: 201910154554.X 申请日: 2019-03-01
公开(公告)号: CN109799574B 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 魏韦;周凤雪;陈莹;周俊 申请(专利权)人: 南京聚科光电技术有限公司
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 南京先科专利代理事务所(普通合伙) 32285 代理人: 孙甫臣
地址: 210038 江苏省南京市经*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 任意 图样 光纤 光栅 制备 装置 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种任意图样的光纤光栅制备装置,其特征在于:包括光纤光栅刻写光、可控光阑、反射镜、相位掩膜板和待刻写光栅;所述光纤光栅刻写光通过可控光阑控制光纤光栅刻写光的通过和关闭,所述光纤光栅刻写光通过可控光阑发出,穿过可控光阑的光纤光栅刻写光经反射镜的反射作用将其正入射到相位掩膜板上,所述反射镜放置于可移动支架上,所述可移动支架控制反射镜处于与相位掩膜板平行的不同位置;所述相位掩膜板使光纤光栅刻写光形成初始干涉条纹;所述待刻写光栅,是通过光纤光栅刻写光形成的初始干涉条纹在待刻写光栅上形成周期性折射率调制而成。

2.根据权利要求1所述的一种任意图样的光纤光栅制备装置,其特征在于:还包括工控机,所述工控机用于控制可控光阑的开/关和可移动支架的移动速度。

3.根据权利要求2所述的一种任意图样的光纤光栅制备装置,其特征在于:还包括刻写光源,所述刻写光源用于提供光纤光栅刻写光。

4.根据权利要求3所述的一种任意图样的光纤光栅制备装置,其特征在于:所述刻写光源为紫外连续刻写激光器。

5.根据权利要求1所述的一种任意图样的光纤光栅制备装置,其特征在于:所述相位掩膜板选用刻写布拉格光栅所用的均匀相位掩膜板。

6.根据权利要求1所述的一种任意图样的光纤光栅制备装置,其特征在于:所述相位掩膜板与待刻写光栅平行。

7.利用权利要求1-6任一所述光纤光栅制备装置进行工作的方法,其特征在于:包括如下步骤:

1)仔细调节反射镜角度,使光纤光栅刻写光垂直于相位掩膜板;

2)仔细调制可移动支架,确保反射镜在移动过程中,光纤光栅刻写光均垂直于相位掩膜板;

3)放置待刻写光栅,调整待刻写光栅与相位掩膜板平行;

4)打开可控光阑,使光纤光栅刻写光通过可控光阑,均匀移动反射镜,观察此时在待刻写光栅上得到的光纤光栅,重复步骤1)至3)的步骤,直至此时得到均匀的布拉格光栅;

5) 通过控制可控光阑的开/关和反射镜的移动速度,得到任意图样的光纤光栅。

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