[发明专利]OCT数据处理装置及方法、存储介质在审
申请号: | 201910155399.3 | 申请日: | 2019-03-01 |
公开(公告)号: | CN110226915A | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 樋口幸弘;加纳徹哉;柴凉介 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼德克 |
主分类号: | A61B5/00 | 分类号: | A61B5/00;A61B3/12 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 线图案 数据处理装置 三维 测定区域 存储介质 测定光 二维 二维断层图像 光轴交叉 线交叉 照射 配置 | ||
1.一种OCT数据处理装置,即光学相干层析成像数据处理装置,用于对由OCT装置获取到的被检眼的组织的OCT数据进行处理,所述OCT数据处理装置的特征在于,
所述OCT装置具备:
OCT光源;
分支光学元件,其将从所述OCT光源射出的光分支为测定光和参照光;
照射光学系统,其向所述组织照射被所述分支光学元件分支出的所述测定光;
合波光学元件,其将被所述组织反射的所述测定光与被所述分支光学元件分支出的所述参照光进行合波,来使所述测定光与所述参照光产生干涉;以及
受光元件,其通过接收由所述合波光学元件生成的干涉光,来检测干涉信号,
其中,所述OCT数据处理装置的控制部进行以下动作:
获取三维OCT数据,该三维OCT数据是通过向在与所述测定光的光轴交叉的方向上扩展的二维的测定区域照射所述测定光来获得的三维的所述OCT数据;
针对被获得了所述三维OCT数据的所述二维的测定区域,设定线的配置、数量以及形状中的至少一个互不相同的多种线图案中的任一种线图案;以及从所述三维OCT数据中提取与所设定的线图案中的线交叉的截面的二维断层图像。
2.根据权利要求1所述的OCT数据处理装置,其特征在于,
所述OCT装置还具备扫描部,该扫描部使由所述照射光学系统向所述组织照射的所述测定光在与光轴交叉的二维方向上进行扫描,
通过由所述扫描部使所述测定光的光点在所述二维的测定区域内进行扫描,来获得所述三维OCT数据。
3.根据权利要求1或2所述的OCT数据处理装置,其特征在于,
所述控制部在对从过去被获得过所述OCT数据的所述被检眼新获得的所述OCT数据进行处理的情况下,针对所述测定区域设定与在对过去获得的所述OCT数据进行处理时设定的线图案相同的线图案。
4.根据权利要求3所述的OCT数据处理装置,其特征在于,
所述控制部在对从过去被获得过所述OCT数据的所述被检眼新获得的所述OCT数据进行处理的情况下,将所述线图案设定在与对过去获得的所述OCT数据进行处理时设定线图案的位置相同的位置。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的OCT数据处理装置,其特征在于,
所述控制部基于对所述测定区域的二维正面图像以及从所述测定区域获得的所述三维OCT数据中的至少一个进行的分析处理的结果,来决定设定所述线图案的位置。
6.根据权利要求1至5中的任一项所述的OCT数据处理装置,其特征在于,
所述控制部进行以下动作:
根据由用户输入的操作指示来制作线图案,
将制作出的线图案的信息作为所述多种线图案中的一种线图案存储到存储部中。
7.根据权利要求1至6中的任一项所述的OCT数据处理装置,其特征在于,
所述多种线图案被存储在存储部中,
所述控制部通过选择所述多种线图案中的一个或多个线图案,来设定线图案。
8.根据权利要求1至7中的任一项所述的OCT数据处理装置,其特征在于,
所述控制部设定所述多种线图案中的多个线图案。
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