[发明专利]能够独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统有效
申请号: | 201910156627.9 | 申请日: | 2019-03-01 |
公开(公告)号: | CN110216094B | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 金铉泰 | 申请(专利权)人: | 金铉泰 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00 |
代理公司: | 北京锺维联合知识产权代理有限公司 11579 | 代理人: | 罗银燕 |
地址: | 韩国京畿道军浦市龙虎一路*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 能够 独立 清洁 对象 焊剂 系统 | ||
1.一种能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统,其特征在于,
包括:
移送模块,用于移送以预设的模式配置的多个清洁对象物;
清洁模块,具有与上述清洁对象物相对应的多个喷嘴,通过从每个上述喷嘴均匀喷射清洁液来去除杂质;
净化模块,与上述清洁模块连续配置,通过向上述清洁对象物喷射另外的混合液来去除上述清洁液及上述杂质;以及
干燥模块,用于干燥经过上述清洁模块及上述净化模块的上述清洁对象物,
在上述清洁模块以与上述清洁对象物的配置模式相对应的方式配置有多个上述喷嘴,每个喷嘴以均匀的压力喷射上述清洁液来独立清洁上述清洁对象物,
上述清洁模块包括:
清洁腔室,配置于上述移送模块的移送路径上,用于在内部收容上述清洁对象物;
均匀喷射单元,具有多个上述喷嘴,在内部形成有用于使上述清洁液流动的流动空间,通过上述流动空间向各个上述喷嘴均匀地传输上述清洁液;以及
多个阻力体,设置于上述均匀喷射单元的内部,通过干扰上述清洁液的流动来产生乱流流动,并使上述清洁液均匀地分散于上述喷嘴,
上述阻力体呈球形,在相邻的多个上述阻力体之间形成空隙。
2.根据权利要求1所述的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统,其特征在于,上述清洁模块以沿着上述移送模块连续配置有多个,并以多级的方式向上述清洁对象物喷射上述清洁液。
3.根据权利要求2所述的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统,其特征在于,上述清洁模块清洁上述清洁对象物的时间比上述净化模块的净化时间长,上述清洁模块的数量根据上述净化模块的净化时间与上述清洁模块的清洁时间之差而定,并分别工作均匀的时间。
4.根据权利要求1所述的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统,其特征在于,上述净化模块包括:
净化腔室,设置于上述移送模块的路径上,用于收容上述清洁对象物;以及
混合喷射单元,在内部具有混合空间,用于向上述清洁对象物喷射混合有分别供应的多个流体的上述混合液。
5.根据权利要求4所述的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统,其特征在于,上述净化模块还包括:
混合喷射单元,接收流体并通过形成于下部的流出口进行喷射;
第一注入线,用于向上述混合喷射单元注入清洁干燥空气;
第二注入线,用于向上述混合喷射单元注入混合有去离子水和微泡的混合流体;以及
第三注入线,用于向上述混合喷射单元注入蒸汽。
6.根据权利要求5所述的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统,其特征在于,上述混合喷射单元还包括用于防止注入于内部的上述清洁干燥空气和上述混合流体回流的防回流引导件。
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