[发明专利]一种红外激光阻断薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种红外激光阻断薄膜，其特征在于，包括依次叠层设置的基底、第一胶粘层、红外吸收层、第二胶粘层、钒氧化物层、安装胶层和保护层。

2.根据权利要求1所述的红外激光阻断薄膜，其特征在于，所述基底的材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯；所述基底的厚度为50～100μm。

3.根据权利要求1所述的红外激光阻断薄膜，其特征在于，形成所述第一胶粘层和第二胶粘层所用的胶粘剂包括聚氨酯胶粘剂。

4.根据权利要求1所述的红外激光阻断薄膜，其特征在于，所述红外吸收层的厚度为8～15μm。

5.根据权利要求1或4所述的红外激光阻断薄膜，其特征在于，形成所述红外吸收层所用红外吸收原料的粒度为10～100nm。

6.根据权利要求1所述的红外激光阻断薄膜，其特征在于，所述钒氧化物层的厚度为10～50μm。

7.根据权利要求1或6所述的红外激光阻断薄膜，其特征在于，形成所述钒氧化物层所用钒氧化物原料的粒度为10～100nm。

8.根据权利要求1所述的红外激光阻断薄膜，其特征在于，形成所述安装胶层所用的胶粘剂包括丙烯酸酯胶粘剂。

9.根据权利要求1所述的红外激光阻断薄膜，其特征在于，所述保护层的材料包括氧化铟锡；所述保护层的厚度为10～50μm。

10.权利要求1～9任一项所述红外激光阻断薄膜的制备方法，包括以下步骤：

在基底的单面依次涂覆胶粘剂、含红外吸收原料的浆料、胶粘剂、含钒氧化物原料的浆料和胶粘剂，然后覆盖保护材料，得到红外激光阻断薄膜。