[发明专利]一种液态金属靶材及其制备合金膜的方法有效
| 申请号： | 201910161639.0 | 申请日： | 2019-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN109763109B | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 崔云涛;田利丰;刘静 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/58;C22C28/00;H01L31/032 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王文君;陈征 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 液态 金属 及其 制备 合金 方法 | ||
1.一种GaInZn合金膜或CuGaIn合金膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将金属靶材和铜靶材或将液态金属靶材和锌靶材置于物理气相沉积镀膜设备中通过共溅射法进行镀膜；
所述液态金属靶材的镀膜条件为：氩气流量10～30sccm，氧气流量0或10～30sccm，靶基距18～40mm，基底温度15～25℃，溅射功率40～100W；
所述铜或锌靶材的镀膜条件为：氩气流量10～30sccm，氧气流量0或10～30sccm，靶基距18～40mm，基底温度15～25℃，溅射功率40～100W；
所述液态金属靶材包括靶材基底和覆于所述靶材基底表面的液态金属靶材层，所述液态金属为镓铟合金，所述镓铟合金中镓的摩尔百分比为40～60％，所述靶材基底为铜或铁；
所述液态金属靶材由如下方法制备得到：将液态金属和靶材基底置于酸性溶液中处理，使所述液态金属覆于所述靶材基底的表面；
所述酸性溶液的pH为0～1，在温度40～80℃的条件下处理1～5min。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述液态金属靶材层的厚度为0.1～1mm。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，单质铟和单质镓中的杂质含量不超过0.01％。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述基底包括但不限于硅片、玻璃、铜、钼、PDMS中的一种或多种。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述基底为硅片、钼或玻璃。
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