[发明专利]一种二氧化硅烘干除杂系统

权利要求书

1.一种二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：按照工艺流程由前至后的顺序依次包括烘干装置、除杂装置；

所述烘干装置包括烘干箱体，所述烘干箱体的顶部设有进料口，所述烘干箱体上设有出料口；

所述除杂装置包括第一除杂装置和第二除杂装置；所述第二除杂装置位于第一除杂装置下方，用以对经所述第一除杂装置除杂后的二氧化硅物料进行过滤除杂；

所述第一除杂装置包括主动辊、从动辊和驱动装置，从动辊和主动辊之间通过传送带传动连接，所述驱动装置驱动所述主动辊转动；所述从动辊具有磁性。

2.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述烘干箱体的底部设有夹层，所述夹层内设有加热装置。

3.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：还包括机架，所述烘干装置位于机架上，所述烘干箱体的出料口位于烘干箱体的侧壁，所述出料口内设有导料槽，所述二氧化硅沿导料槽落入所述传送带上。

4.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述导料槽呈喇叭状，所述导料槽上设有若干导料挡板，所述导料挡板与二氧化硅下落方向平行。

5.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述出料口相对方向设有伸缩装置和推板，所述伸缩装置位于烘干箱体侧壁，所述伸缩装置与推板连接，所述伸缩装置带动所述推板将二氧化硅推入出料口。

6.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述从动辊的下方设有杂物收集槽，所述杂物收集槽上连接有第一导料板，所述杂物从从动辊上落到第一导料板上，从而落入杂物收集槽内。

7.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述第二除杂装置包括滤网框、若干支撑弹簧、物料收集槽，所述支撑弹簧的一端固定在滤网框底部，所述支撑弹簧的另一端固定在物料收集槽内底面。

8.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述滤网框呈倾斜状，所述物料收集槽的底面呈倾斜状，所述物料收集槽的底面较低的一侧为出料端。

9.根据权利要求3所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述物料收集槽底端设有支架，所述支架的一端与物料收集槽的底面连接，另一端与机架连接，所述物料收集槽的一端固定在机架侧面。

10.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述第一导料板背离杂物收集槽的一侧连接有第二导料板，所述二氧化硅从传送带上落到第二导料板上，从而落入滤网框内。