[发明专利]一种针对硫酸盐垢的反渗透阻垢剂

说明书

本发明公开了一种针对硫酸盐垢的反渗透阻垢剂，由二乙烯三胺五亚甲基叉膦酸10‑30%、2‑磷酸基‑1，2，4‑三羧酸丁烷1‑10%、双1，6‑亚己基三胺五甲叉膦酸1‑20%、丙烯酸‑2‑丙烯酰胺‑2‑甲基丙磺酸共聚物1‑10%、聚丙烯酸1‑10%、氢氧化钾1‑10%、异噻0.1‑0.5%、去离子水余量。本发明通过聚合物作用导致晶格畸变，并且聚合物分散作用使硫酸钙不容易黏着膜系统表面，随着浓水排掉，选用DTPMP二乙烯三胺五亚甲基叉膦酸和BHMTPMPA双1，6‑亚己基三胺五甲叉膦酸，利用从分子结构上与氨基结合的磷羧酸分叉越多其可以螯和的二价金属离子越多，可以对硫酸盐进行更好地阻垢，并且通过加异噻解决了反渗透加药箱药剂稀释后长时间放置容易出现藻菌滋生问题，不但解决碳酸盐垢，还解决了硫酸盐垢的形成。

技术领域

本发明涉及阻垢分散剂技术领域，具体为一种针对硫酸盐垢的反渗透阻垢剂。

背景技术

反渗透技术目前已经是主流软化水技术，以前通过树脂交换制水手段，近几年慢慢转向通过反渗透膜及超滤纳滤膜系统软化制水，在制水过程中浓水一端金属离子高度浓缩必然会出现盐类析出结垢现象，导致膜污堵从而减少产水影响生产效率，因此需要投加复合反渗透阻垢剂来进行阻垢，目前市场上的反渗透阻垢剂主要以阻碳酸盐垢为主，但是部分地区水质特殊硫酸盐含量高，在进行制水的过程中容易产生硫酸盐垢，急需阻垢剂来抑制硫酸盐垢的形成。

在专利CN102351324A中，提到过用聚合物作为分散剂，在苦咸水及卤水对硫酸盐能起到较好的分散作用，但是不适用于反渗透膜系统，因为反渗透膜对药剂分子量要求极高，还需要配合有机膦酸强螯合性进行抑垢，而目前循环水和卤水制盐所用阻垢剂里面的聚合物分子量并没有太高要求，CN101172718B曾经提到用有机膦PAPEMP等和聚环氧琥珀酸阻硫酸盐垢效果理想，但是聚环氧琥珀酸本身酸性及中性条件溶解度极低，必须在强碱下才能溶解，也就意味着阻垢剂必须在配成强碱溶液才能使用，限制了使用环境。

发明内容

本发明的目的在于提供一种针对硫酸盐垢的反渗透阻垢剂，以解决上述背景技术中提出的现有阻垢剂不便于抑制硫酸盐垢的形成，不适用于反渗透系统，且使用受到限制问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种针对硫酸盐垢的反渗透阻垢剂，按质量百分比组成为：

DTPMP二乙烯三胺五亚甲基叉膦酸10-30%；

PBTCA 2-磷酸基-1，2，4-三羧酸丁烷1-10%；

BHMTPMPA双1，6-亚己基三胺五甲叉膦酸1-20%；

AA/AMPS丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物1-10%；

PAA聚丙烯酸1-10%；

KOH氢氧化钾1-10%；

异噻0.1-0.5%；

去离子水余量。

优选的，该阻垢剂按质量百分比组成为二乙烯三胺五亚甲基叉膦酸30%、2-磷酸基-1，2，4-三羧酸丁烷10%、双1，6-亚己基三胺五甲叉膦酸10%、丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物5%、聚丙烯酸5%、氢氧化钾5%、异噻0.1%、去离子水余量。

优选的，AA/AMPS丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物与PAA聚丙烯酸的分子量需控制为1500-2500。

优选的，该阻垢剂的使用量为2-6mg/L。

优选的，该阻垢剂适用于电厂、煤化工、制药与食品行业反渗透、超滤、纳滤膜制水的使用。