[发明专利]一种γ射线能谱全能峰基底精细化计算方法及系统在审
申请号: | 201910164684.1 | 申请日: | 2019-03-05 |
公开(公告)号: | CN110031888A | 公开(公告)日: | 2019-07-19 |
发明(设计)人: | 刘立业;赵日;肖运实;曹勤剑;汪屿;金成赫;赵原;夏三强;卫晓峰;潘红娟;李晓敦;刘一聪;熊万春 | 申请(专利权)人: | 中国辐射防护研究院 |
主分类号: | G01T1/36 | 分类号: | G01T1/36;G06F17/12 |
代理公司: | 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 | 代理人: | 田明;于春洋 |
地址: | 030006 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 全能峰 基底 计算方法及系统 射线能谱 精细化 递推 能谱 能谱分析 道基 吻合 改进 | ||
1.一种γ射线能谱全能峰基底精细化计算方法,其特征在于,包括:
S1、获取基于γ能谱中道址为1~N的全能峰区域内相邻两道基底间的递推关系式:
Bi-Bi+1=λPi i=0,...,N (1)
其中,Bi、Bi+1分别为第i道和第i+1道的基底计数;Pi为第i道的全能峰净计数;Yi为第i道的总计数;λ为待定常数;N为正整数;
S2、基于总计数为全能峰净计数与基底计数之和这一恒等式,结合所述递推关系式,计算得到全能峰区域各道净计数和基底计数。
2.根据权利要求1所述的一种γ射线能谱全能峰基底精细化计算方法,其特征在于,步骤S2中,总计数为全能峰净计数与基底计数之和,即
Bi+Pi=Yi i=0,...,N (2)
步骤S2包括:
将式(1)、式(2)联立并削去Bi(i=1,…,N)后,可得:
其中,B0、BN+1分别表示全能峰区域两侧边界处的基底计数,均为已知量;Pj为第j道的全能峰净计数。
3.根据权利要求2所述的一种γ射线能谱全能峰基底精细化计算方法,其特征在于,步骤S2还包括:
令记BL=B0 BR=BN+1,将式(3)简化表示为:
其中,BL、BR分别表示全能峰区域两侧边界处的基底计数。
4.根据权利要求3所述的一种γ射线能谱全能峰基底精细化计算方法,其特征在于,步骤S2还包括:
通过迭代法求解非线性方程组式(4),计算得到待定常数λ和全能峰区域各道净计数Pi(i=1,..,N);根据总计数Yi和全能峰区域各道净计数Pi(i=1,..,N)计算得到Bi=Yi-Pi(i=1,..,N)。
5.根据权利要求4所述的一种γ射线能谱全能峰基底精细化计算方法,其特征在于,通过迭代法求解非线性方程组式(4),迭代过程为:
(i)取任意初值λ0、M0,并设置最大迭代次数n,以及误差阈值ε;
(ii)计算第k+1步结果:
(iii)重复第(ii)步直到k>n或计算得到待定常数λ和全能峰区域各道净计数Pi(i=1,..,N)。
6.一种γ射线能谱全能峰基底精细化计算系统,其特征在于,包括:
获取模块,用于获取基于γ能谱中道址为1~N的全能峰区域内相邻两道基底间的递推关系式:
Bi-Bi+1=λPi i=0,...,N (1)
其中,Bi、Bi+1分别为第i道和第i+1道的基底计数;Pi为第i道的全能峰净计数;Yi为第i道的总计数;λ为待定常数;N为正整数;
计算模块,用于基于总计数为全能峰净计数与基底计数之和这一恒等式,结合所述递推关系式,计算得到全能峰区域各道净计数和基底计数。
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