[发明专利]一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备及其抛光方法

说明书

本发明公开了一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备及其抛光方法，其技术方案要点是：一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备，包括上料缸、下料缸，待抛光模具设置于上料缸与下料缸之间，所述上料缸与下料缸之间设置有用于抛光待抛光模具的流体介质，上料缸与下料缸之间设置有流体抛光芯块，所述流体抛光芯块与所述待抛光模具的抛光面之间留有供流体介质穿过的流道，流道在待抛光模具任意径向截面位置的面积均相等，所述流体介质匀速穿过流道，所述待抛光模具任意位置的抛光面受所述流体介质的压力相同。本发明达到保持流体介质在流道内匀速流动，实现高精度异型表面产品的均匀抛光，提高抛光的均匀性，并提高生产效率。

技术领域

本发明涉及模具抛光领域，尤其涉及到一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备及其抛光方法。

背景技术

在精密锻造模具的抛光加工中，通过流体介质完成成形模具的抛光，某种程度上，可以克服人工抛光时的高强度和不均匀性。流体介质抛光的原理是，根据给定的形状的产品，设计一个与该产品表面相同或相近的治具，然后将它们装配在一起，并设置一定的距离(间隙)，这样一来在产品与治具表面之间就形成了流体介质的流道，当流体介质(含有一定比例的金刚粉)在柱塞作用下，以一定的速度流过流道时，金刚粉的磨削作用就可以去除模具表面的放电层。相比人工抛光、固态介质抛光(粉状)等方法，对于复杂的曲面造型模具表面，流体介质的抛光具有一定的优势。

如图1所示，以锥形模具及其治具表面为例，治具表面任一点到产品表面的垂直距离相等。即两个不同截面A和B，他们的间隙值t是相等的。但该设计方法对于轴向变截面的模具产品，变截面导致单位时间的流量不同，即通过该截面任一点的流体介质流速不同，导致模具表面任一点的蚀除量不同，最终造成了抛光不均匀，难于保证模具的高精度要求。

因此，我们有必要对这样一种结构进行改善，以克服上述缺陷。

发明内容

本发明的目的是提供一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备及其抛光方法达到保持流体介质在流道内匀速流动，实现高精度异型表面产品的均匀抛光，提高抛光的均匀性，并提高生产效率。

本发明的上述技术目的是通过以下技术方案实现的：一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备，包括上料缸、下料缸，待抛光模具设置于上料缸与下料缸之间，所述上料缸与下料缸之间设置有用于抛光待抛光模具的流体介质，上料缸与下料缸之间设置有流体抛光芯块，所述流体抛光芯块与所述待抛光模具的抛光面之间留有供流体介质穿过的流道，流道在待抛光模具任意径向截面位置的面积均相等，所述流体介质匀速穿过流道，所述待抛光模具任意位置的抛光面受所述流体介质的压力相同。

本发明的进一步设置为：所述上料缸设置有抵接于待抛光模具的上支撑板，所述下料缸设置有抵接于待抛光模具的下支撑板，所述下支撑板设置有固定所述流体抛光芯块相对于待抛光模具位置的固定组件；所述固定组件包括设置于所述流体抛光芯块与所述下支撑板之间的垫块，所述流体抛光芯块、垫块及下支撑板之间穿设有螺栓，所述螺栓螺纹连接有固定流体抛光芯块相对位置的螺母。

本发明的进一步设置为：一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光方法，包括如下步骤：

(a)将流体介质放置于下料缸，将待抛光模具放置下支撑板，并使用螺栓将流体抛光芯块、垫块固定于下支撑板上，上支撑板覆于待抛光模具上端面，流体抛光芯块与待抛光模具之间形成有供流体介质穿过的流道；

(b)预设上料缸与下料缸之间的模腔压力，并设定流体介质在上料缸与下料缸之间往复流动次数；

(c)上料缸下压至上支撑板，使得上料缸与下料缸之间形成闭合腔体；

(d)下料缸将流体介质顶出，流体介质流经流体抛光芯块与待抛光模具之间的流道后进入上料缸；然后上料缸将流体介质压下，流体介质流经流体抛光芯块与待抛光模具之间的流道后进入下料缸，如此反复流动，进行抛光；