[发明专利]一种基于有机小分子薄膜晶体管的环境气体检测方法在审
申请号: | 201910168930.0 | 申请日: | 2019-03-06 |
公开(公告)号: | CN109946338A | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 陆旭兵;麦嘉盈 | 申请(专利权)人: | 肇庆市华师大光电产业研究院 |
主分类号: | G01N27/00 | 分类号: | G01N27/00 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 任重 |
地址: | 526040 广东省肇庆市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 标准曲线 阈值电压 迁移率 晶体管 传输特性曲线 环境气体检测 有机小分子薄膜 检测 气氛环境 半导体薄膜晶体管 验证 器件稳定性 有机小分子 环境氛围 环境气氛 饱和区 灵敏性 准确率 | ||
1.一种基于有机小分子薄膜晶体管的环境气体检测方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1.建立标准曲线:将有机小分子半导体薄膜晶体管依次置于一系列不同气氛环境中,分别测得所述有机小分子半导体薄膜晶体管在各气氛下饱和区的传输特性曲线,根据该传输特性曲线计算出不同氛围下有机小分子半导体薄膜晶体管的迁移率、阈值电压,从而得到迁移率-氛围标准曲线、阈值电压-氛围标准曲线;
S2.环境气氛测试:将有机小分子半导体薄膜晶体管置于待测环境中,测得其饱和区的传输特性曲线,根据该传输特性曲线计算得到有机小分子半导体薄膜晶体管在待测环境中的迁移率μsat和阈值电压VTH,将μsat、VTH代入上述迁移率-氛围标准曲线和阈值电压-氛围标准曲线,共同验证,即可得到待测环境氛围。
2.如权利要求1所述环境气体检测方法,其特征在于,S1中所述一系列不同气氛环境依次为真空、氧气、氮气和空气。
3.如权利要求2所述环境气体检测方法,其特征在于,当迁移率μsat为2.60~3.31cm2V-1s-1,阈值电压VTH为20.40~22.22V,则待测环境氛围为真空;当迁移率μsat为1.10~2.00cm2V-1s-1,阈值电压VTH为25.63~28.78V,则待测环境氛围为氮气;当迁移率μsat为2.00~2.51cm2V-1s-1,阈值电压VTH为22.5~24.59V,则待测环境氛围为氧气;当迁移率μsat为3.97~5.49cm2V-1s-1,阈值电压VTH为14.34~18.00V,则待测环境氛围为空气。
4.如权利要求1~3任何一项所述环境气体检测方法,其特征在于,S1中所述迁移率的计算方法为:其中其中μsat为迁移率,L为沟道长度,W为沟道宽度,Id(sat)为沟道电流,Vg为栅极电压,Ci为平均电容。
5.如权利要求1~3任何一项所述环境气体检测方法,其特征在于,所述阈值电压VTH的检测方法为:根据曲线中的线性区域拟合成直线,与Vg轴相交的点即为阈值电压VTH,其中Id为沟道电流,Vg为栅极电压。
6.如权利要求1所述环境气体检测方法,其特征在于,所述有机小分子半导体薄膜晶体管为C8-BTBT晶体管,包括衬底和衬底上依次层叠的氧化硅层、栅极、C8-BTBT有源层、MoO3缓冲层和源漏电极。
7.如权利要求6所述环境气体检测方法,其特征在于,所述衬底为P型重掺硅片。
8.如权利要求6所述环境气体检测方法,其特征在于,所述MoO3缓冲层的厚度为5nm。
9.如权利要求6所述环境气体检测方法,其特征在于,源漏电极为Au,其厚度为40nm。
10.如权利要求6所述环境气体检测方法,其特征在于,S1中所述传输特性曲线的测试方法为,在常温常压下,对C8-BTBT晶体管的漏极电极施加-40V的电压,对C8-BTBT晶体管的栅极施加-40~5V的电压。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于肇庆市华师大光电产业研究院,未经肇庆市华师大光电产业研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910168930.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:血液检测方法
- 下一篇:一种矩阵式远红外电流检测方法